| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-30页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.1.1 多孔材料的概述 | 第11页 |
| 1.1.2 金属有机骨架材料(Metal-Organic Frameworks)的概述 | 第11-12页 |
| 1.2 MOF晶体和MOF薄膜的制备方法 | 第12-17页 |
| 1.2.1 MOF晶体的制备方法 | 第12-14页 |
| 1.2.2 MOF薄膜的合成方法 | 第14-17页 |
| 1.3 MOF薄膜的应用 | 第17-21页 |
| 1.3.1 MOF在传感中的应用 | 第17-18页 |
| 1.3.2 MOF材料在气体存储和分离方面的应用 | 第18-20页 |
| 1.3.3 MOF材料在催化中的应用 | 第20-21页 |
| 1.4 课题的研究意义及内容 | 第21-22页 |
| 1.4.1 研究意义 | 第21页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第21-22页 |
| 1.5 参考文献 | 第22-30页 |
| 第二章 FTO电极上ZIF-8薄膜的制备及其化学稳定性的研究 | 第30-40页 |
| 2.1 引言 | 第30-31页 |
| 2.2 实验部分 | 第31-32页 |
| 2.2.1 实验试剂及仪器 | 第31-32页 |
| 2.2.2 实验材料的合成 | 第32页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第32-36页 |
| 2.3.1 FTO基底ZIF-8薄膜的表征 | 第32-34页 |
| 2.3.2 ZIF-8薄膜稳定性的检测 | 第34-36页 |
| 2.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 2.5 参考文献 | 第37-40页 |
| 第三章 UIO-66薄膜的制备 | 第40-80页 |
| 3.1 引言 | 第40-41页 |
| 3.2 实验部分 | 第41-49页 |
| 3.2.1 实验材料及仪器 | 第41页 |
| 3.2.2 玻璃基底上的修饰 | 第41-42页 |
| 3.2.3 FTO导电玻璃的修饰 | 第42-43页 |
| 3.2.4 在玻璃基底上UiO-66薄膜的制备 | 第43-47页 |
| 3.2.5 FTO导电玻璃上UiO-66薄膜的制备 | 第47-49页 |
| 3.2.6 NH_2-UiO-66薄膜的制备 | 第49页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第49-75页 |
| 3.3.1 羟基修饰的玻璃片基底上UiO-66薄膜的表征 | 第49-55页 |
| 3.3.2 氨基修饰的玻璃基底上UiO-66薄膜的表征 | 第55-56页 |
| 3.3.3 PVP修饰的玻璃片基底上的UiO-66薄膜的表征 | 第56-58页 |
| 3.3.4 多巴胺修饰的玻璃基底上的UiO-66薄膜的表征 | 第58-62页 |
| 3.3.5 UiO-66薄膜种子生长法的表征 | 第62-63页 |
| 3.3.6 羧基修饰的玻璃基底上UiO-66膜的表征 | 第63-65页 |
| 3.3.7 羟基修饰的FTO导电玻璃上UiO-66薄膜的表征 | 第65-66页 |
| 3.3.8 羧基修饰的FTO生长的UiO-66膜的表征 | 第66-68页 |
| 3.3.9 BDC修饰的FTO上UiO-66膜的表征 | 第68-73页 |
| 3.3.10 FTO上NH2-UiO-66薄膜的表征 | 第73-75页 |
| 3.5 本章小结 | 第75-76页 |
| 3.6 参考文献 | 第76-80页 |
| 第四章 UIO-66薄膜的后处理和电化学分子选择性的研究 | 第80-93页 |
| 4.1 引言 | 第80-81页 |
| 4.2 实验部分 | 第81-82页 |
| 4.2.1 实验试剂及仪器 | 第81页 |
| 4.2.2 UiO-66薄膜后处理 | 第81-82页 |
| 4.2.3 电化学性质的检测 | 第82页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第82-91页 |
| 4.3.1 UiO-66薄膜后处理的表征 | 第82-86页 |
| 4.3.2 电化学性质的检测 | 第86-91页 |
| 4.4 本章小结 | 第91页 |
| 4.5 参考文献 | 第91-93页 |
| 第五章 结论 | 第93-94页 |
| 攻读学位期间本人出版或公开发表的论著、论文 | 第94-95页 |
| 致谢 | 第95页 |
