磁控溅射法制备AZO透明导电薄膜及其性能研究
| 论文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| ·引言 | 第9-12页 |
| ·AZO透明导电薄膜的结构 | 第10-11页 |
| ·AZO薄膜导电机理和光学特性 | 第11-12页 |
| ·AZO薄膜的主要制备方法 | 第12-15页 |
| ·磁控溅射方法 | 第13页 |
| ·真空蒸镀法 | 第13-14页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第14页 |
| ·化学气相沉积法 | 第14-15页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第15页 |
| ·AZO薄膜的主要应用与研究现状 | 第15-17页 |
| ·AZO薄膜的应用 | 第15-16页 |
| ·AZO薄膜的研究现状 | 第16-17页 |
| ·实验研究的目的及内容 | 第17-18页 |
| 第二章 实验设备及样品分析方法 | 第18-23页 |
| ·实验设备 | 第18页 |
| ·样品分析方法 | 第18-23页 |
| ·X射线衍射仪XRD | 第18-19页 |
| ·扫描电子显微镜SEM | 第19-20页 |
| ·原子力显微镜AFM | 第20页 |
| ·紫外-可见分光光度计 | 第20-21页 |
| ·四探针电阻测试仪 | 第21-22页 |
| ·台阶仪 | 第22-23页 |
| 第三章 实验方法及过程 | 第23-28页 |
| ·AZO靶材制备 | 第23-26页 |
| ·靶材原料 | 第23页 |
| ·靶材制备工艺 | 第23-25页 |
| ·靶材晶体结构分析 | 第25-26页 |
| ·玻璃基底的清洗 | 第26页 |
| ·溅射参数及过程 | 第26-28页 |
| ·溅射参数 | 第27页 |
| ·溅射过程 | 第27-28页 |
| 第四章 AZO薄膜的结构分析 | 第28-43页 |
| ·溅射工艺参数对AZO薄膜结构的影响 | 第28-37页 |
| ·溅射功率的影响 | 第28-31页 |
| ·工作压强的影响 | 第31-33页 |
| ·基底温度的影响 | 第33-35页 |
| ·薄膜厚度的影响 | 第35-37页 |
| ·A1掺杂浓度对AZO薄膜结构的影响 | 第37-38页 |
| ·后续退火处理对AZO薄膜结构的影响 | 第38-41页 |
| ·退火温度对薄膜结构的影响 | 第38-40页 |
| ·退火时间对薄膜结构的影响 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第五章 AZO薄膜光学和电学特性分析 | 第43-55页 |
| ·溅射工艺参数对AZO光学和电学性能的影响 | 第43-50页 |
| ·溅射功率的影响 | 第43-45页 |
| ·工作压强的影响 | 第45-46页 |
| ·基底温度的影响 | 第46-48页 |
| ·薄膜厚度的影响 | 第48-50页 |
| ·Al掺杂量对AZO光学和电学性能的影响 | 第50-52页 |
| ·后续退火处理对AZO薄膜光学和电学特性的影响 | 第52-53页 |
| ·退火温度的影响 | 第52页 |
| ·退火时间的影响 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第六章 实验结论与展望 | 第55-57页 |
| ·实验总结 | 第55-56页 |
| ·实验改进方向 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 研究生期间论文发表情况 | 第63页 |
