| 摘要 | 第5-8页 |
| abstract | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-25页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 TiO_2简介 | 第13-15页 |
| 1.2.1 TiO_2的晶体结构 | 第13页 |
| 1.2.2 TiO_2的光催化原理 | 第13-14页 |
| 1.2.3 TiO_2的应用 | 第14-15页 |
| 1.3 纳米TiO_2薄膜的制备方法 | 第15-19页 |
| 1.3.1 溶胶-凝胶方法 | 第16页 |
| 1.3.2 磁控溅射法 | 第16-17页 |
| 1.3.3 电子束蒸发 | 第17-18页 |
| 1.3.4 化学气相沉积 | 第18-19页 |
| 1.4 国内外改性研究现状 | 第19-22页 |
| 1.4.1 金属与非金属离子掺杂 | 第20-21页 |
| 1.4.2 贵金属沉积 | 第21页 |
| 1.4.3 增大薄膜比表面积 | 第21-22页 |
| 1.5 本文研究的内容和研究的意义 | 第22-25页 |
| 1.5.1 研究内容 | 第22-23页 |
| 1.5.2 研究的意义 | 第23-25页 |
| 第二章 制备TiO_2薄膜的设备及表征方法介绍 | 第25-32页 |
| 2.1 制备薄膜仪器 | 第25-28页 |
| 2.1.1 磁控溅射机 | 第25-26页 |
| 2.1.2 电子束蒸发镀膜机 | 第26-27页 |
| 2.1.3 原子层沉积系统 | 第27-28页 |
| 2.2 衬底的清洗处理与样品后处理设备 | 第28-29页 |
| 2.2.1 实验所用衬底及清洗处理 | 第28页 |
| 2.2.2 样品后处理设备 | 第28-29页 |
| 2.3 薄膜的表征及性能测试方法 | 第29-32页 |
| 2.3.1 X射线衍射仪（XRD） | 第29页 |
| 2.3.2 场发射扫描电子显微镜（FE-SEM） | 第29-30页 |
| 2.3.3 原子力显微镜（AFM） | 第30页 |
| 2.3.4 透射电子显微镜（TEM） | 第30页 |
| 2.3.5 拉曼光谱（Raman） | 第30-31页 |
| 2.3.6 分光光度计（UV-Vis） | 第31-32页 |
| 第三章 磁控溅射和电子束蒸发制备TiO_2薄膜及性能分析 | 第32-39页 |
| 3.1 TiO_2薄膜的制备 | 第32-33页 |
| 3.2 不同退火条件下TiO_2薄膜性能分析 | 第33-38页 |
| 3.2.1 XRD分析 | 第33-34页 |
| 3.2.2 AFM分析 | 第34-35页 |
| 3.2.3 光学性能分析 | 第35-38页 |
| 3.3 本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 原子层沉积法制备TiO_2薄膜及性能分析 | 第39-50页 |
| 4.1 TiO_2薄膜的制备 | 第39-40页 |
| 4.2 不同退火条件下TiO_2薄膜性能分析 | 第40-48页 |
| 4.2.1 XRD分析 | 第40-42页 |
| 4.2.2 TEM分析 | 第42-43页 |
| 4.2.3 AFM分析 | 第43-45页 |
| 4.2.4 光学性能分析 | 第45-48页 |
| 4.3 本章小结 | 第48-50页 |
| 第五章 负载型TiO_2薄膜的制备及性能分析 | 第50-57页 |
| 5.1 负载型TiO_2薄膜的制备 | 第50-51页 |
| 5.2 沉积态与退火态负载型TiO_2薄膜性能分析 | 第51-56页 |
| 5.2.1 XRD分析 | 第52页 |
| 5.2.2 Raman光谱分析 | 第52-53页 |
| 5.2.3 AFM分析 | 第53-54页 |
| 5.2.4 光学性能分析 | 第54页 |
| 5.2.5 光催化性能分析 | 第54-56页 |
| 5.3 本章小结 | 第56-57页 |
| 第六章 结论与展望 | 第57-59页 |
| 6.1 结论 | 第57-58页 |
| 6.2 展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文情况 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |