双响应可降解光刻胶的制备及应用
| 学位论文数据集 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第15-45页 |
| 1.1 纳米压印技术 | 第15-22页 |
| 1.1.1 热压印 | 第16-17页 |
| 1.1.2 微接触纳米压印 | 第17-18页 |
| 1.1.3 紫外纳米压印 | 第18-19页 |
| 1.1.4 面临的主要问题及解决方法 | 第19-22页 |
| 1.1.4.1 表面处理法 | 第20页 |
| 1.1.4.2 光刻胶改性法 | 第20-21页 |
| 1.1.4.3 制备可降解光刻胶法 | 第21页 |
| 1.1.4.4 其他方法 | 第21-22页 |
| 1.2 光刻胶 | 第22-33页 |
| 1.2.1 热固性光刻胶 | 第23-24页 |
| 1.2.2 热塑性光刻胶 | 第24页 |
| 1.2.3 紫外光刻胶 | 第24-25页 |
| 1.2.4 可降解光刻胶 | 第25-29页 |
| 1.2.4.1 热解型光刻胶 | 第25-26页 |
| 1.2.4.2 酸解型光刻胶 | 第26-27页 |
| 1.2.4.3 紫外可逆光刻胶 | 第27-29页 |
| 1.2.5 光刻胶的应用 | 第29-33页 |
| 1.2.5.1 抗刻蚀剂 | 第30页 |
| 1.2.5.2 在制备柔性电路中的应用 | 第30-31页 |
| 1.2.5.3 在显示器中的应用 | 第31-33页 |
| 1.2.5.4 生物传感器方面的应用 | 第33页 |
| 1.3 硫醇/烯点击化学 | 第33-38页 |
| 1.3.1 硫醇/烯光反应机理及特点 | 第34-35页 |
| 1.3.2 硫醇/烯光聚合在光刻胶中的应用 | 第35-36页 |
| 1.3.3 硫醇/烯光聚合在降解材料中的应用 | 第36-38页 |
| 1.4 紫外可逆交联剂 | 第38-43页 |
| 1.4.1 种类及反应机理 | 第38-39页 |
| 1.4.2 主要应用 | 第39-43页 |
| 1.5 论文研究目的和主要内容 | 第43-45页 |
| 1.5.1 论文研究目的 | 第43页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第43-44页 |
| 1.5.3 课题创新点 | 第44-45页 |
| 第二章 实验部分 | 第45-53页 |
| 2.1 实验原料 | 第45-46页 |
| 2.2 仪器与设备 | 第46-47页 |
| 2.3 实验方案 | 第47-48页 |
| 2.3.1 降解实验 | 第47页 |
| 2.3.2 图形转移 | 第47-48页 |
| 2.3.3 模板清洗 | 第48页 |
| 2.4 测试与表征 | 第48-53页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第53-89页 |
| 3.1 可逆交联剂DAMC的合成与表征 | 第53-61页 |
| 3.1.1 DHMC的合成与表征 | 第53-57页 |
| 3.1.2 DAMC的合成与表征 | 第57-61页 |
| 3.2 双响应可降解光刻胶的组成 | 第61-63页 |
| 3.2.1 光刻胶的组成及反应机理 | 第61-63页 |
| 3.2.2 光刻胶组分配比 | 第63页 |
| 3.3 双响应可降解光刻胶的性能研究 | 第63-82页 |
| 3.3.1 光刻胶的反应动力学 | 第63-65页 |
| 3.3.2 光刻胶的透光特性和体积收缩率 | 第65-67页 |
| 3.3.3 光刻胶的热力学性能 | 第67-69页 |
| 3.3.4 光刻胶的表面性能 | 第69-70页 |
| 3.3.5 光刻胶的降解性能 | 第70-75页 |
| 3.3.6 光刻胶的可逆特性 | 第75-82页 |
| 3.4 双响应可降解光刻胶的应用 | 第82-89页 |
| 3.4.1 图形转移 | 第82-86页 |
| 3.4.2 模板的清洗效果 | 第86-89页 |
| 第四章 结论 | 第89-91页 |
| 参考文献 | 第91-97页 |
| 致谢 | 第97-99页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第99-101页 |
| 作者和导师简介 | 第101-102页 |
| 附件 | 第102-103页 |
