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平面聚焦天线低副焦斑和多焦斑的研究

摘要第5-6页
abstract第6-7页
第一章 绪论第10-17页
    1.1 选题背景及意义第10-11页
    1.2 国内外研究现状第11-16页
        1.2.1 近场聚焦天线阵第11-13页
        1.2.2 近场聚焦天线焦斑特性探究第13-16页
    1.3 创新点与章节安排第16-17页
        1.3.1 主要创新点第16页
        1.3.2 研究内容与章节安排第16-17页
第二章 低副焦瓣近场聚焦天线阵第17-32页
    2.1 引言第17页
    2.2 平面天线聚焦原理第17-18页
    2.3 平面聚焦阵列天线设计第18-25页
        2.3.1 波导-基片集成波导过渡结构第19-20页
        2.3.2 圆波导单模条件第20-21页
        2.3.3 缝隙匹配第21-22页
        2.3.4 低副焦瓣第22-23页
        2.3.5 辐射层厚度第23页
        2.3.6 焦斑与天线尺寸关系第23-25页
    2.4 Ka频段可调聚焦近场阵列天线设计结果第25-26页
    2.5 Ka频段可调聚焦近场阵列天线测试结果第26-31页
        2.5.1 反射系数测试第26-27页
        2.5.2 焦距与焦斑测试第27-31页
    2.6 本章小结第31-32页
第三章 低副焦瓣双圆极化近场聚焦天线阵第32-51页
    3.1 引言第32页
    3.2 低副焦瓣和双圆极化原理第32-33页
    3.3 低副焦瓣双圆极化近场聚焦天线设计第33-44页
        3.3.1 波导-基片集成波导结构第34页
        3.3.2 双圆极化单元天线第34-37页
        3.3.3 近场低副焦瓣第37-39页
        3.3.4 基片集成波导功分网络第39-43页
        3.3.5 基片集成波导移相网络第43-44页
    3.4 K波段2×16低副焦瓣圆极化近场聚焦天线第44-46页
    3.5 仿真测试结果第46-50页
        3.5.1 反射系数测试第46-47页
        3.5.2 焦距与焦斑测试第47-50页
    3.6 本章小结第50-51页
第四章 改进罗特曼透镜馈电近场聚焦的多焦斑天线第51-62页
    4.1 引言第51页
    4.2 聚焦罗特曼透镜原理第51-53页
    4.3 Ka波段多焦斑聚焦天线设计第53-56页
        4.3.1 改进基片集成波导聚焦罗特曼透镜第53-55页
        4.3.2 基片集成波导缝隙天线第55-56页
    4.4 Ka波段基片集成改进罗特曼透镜多焦斑天线第56-57页
    4.5 仿真测试结果第57-60页
        4.5.1 反射系数测试第57-58页
        4.5.2 焦距与焦斑测试第58-60页
    4.6 本章小结第60-62页
第五章 总结与展望第62-64页
致谢第64-65页
参考文献第65-69页
攻硕期间取得的研究成果第69-70页

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