| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-20页 |
| 1.1 ECR离子源简介 | 第11-12页 |
| 1.2 研究的背景和意义 | 第12-15页 |
| 1.3 外电子注入技术的研究现状 | 第15-19页 |
| 1.4 本文的主要内容 | 第19-20页 |
| 第二章 理论基础 | 第20-41页 |
| 2.1 高电荷态ECR离子源 | 第20-29页 |
| 2.1.1 微波与等离子体的相互作用 | 第22-24页 |
| 2.1.2 多电荷态离子的产生 | 第24-27页 |
| 2.1.2.1 电离过程 | 第24-25页 |
| 2.1.2.2 复合过程 | 第25-26页 |
| 2.1.2.3 多电荷态离子平衡方程 | 第26-27页 |
| 2.1.3 多电荷态离子的引出 | 第27-29页 |
| 2.2 热阴极发射理论[27] | 第29-35页 |
| 2.2.1 纯金属的热电子发射现象 | 第29-30页 |
| 2.2.2 金属的内电位、表面势垒和逸出功 | 第30-33页 |
| 2.2.3 实用纯金属阴极 | 第33-35页 |
| 2.3 电子与磁场的作用 | 第35-41页 |
| 2.3.1 电子在磁场中的横向约束[29] | 第35-36页 |
| 2.3.2 电子在磁场中的纵向约束 | 第36-38页 |
| 2.3.3 ECR离子源的min-B磁场 | 第38-41页 |
| 第三章 外电子注入实验设计 | 第41-57页 |
| 3.1 LECR4磁场计算 | 第41-45页 |
| 3.1.1 CST Particle Studio简介[32] | 第41-42页 |
| 3.1.2 磁场计算结果 | 第42-45页 |
| 3.2 电子枪参数的确定 | 第45-53页 |
| 3.2.1 电子枪的结构 | 第45-49页 |
| 3.2.2 电子枪的纵向位置 | 第49-51页 |
| 3.2.3 电子枪的横向位置 | 第51-53页 |
| 3.3 最终模拟结果 | 第53-55页 |
| 3.4 注入组件的结构设计 | 第55-57页 |
| 第四章 外电子注入实验结果与分析 | 第57-72页 |
| 4.1 实验平台 | 第57-58页 |
| 4.2 实验过程与数据 | 第58-71页 |
| 4.2.1 实验准备 | 第58-61页 |
| 4.2.2 实验过程 | 第61-68页 |
| 4.2.2.1 重新测定阴极伏安曲线 | 第61-62页 |
| 4.2.2.2 改变磁场强度的对比实验 | 第62-66页 |
| 4.2.2.3 改变电子能量的对比实验 | 第66-68页 |
| 4.2.3 实验结果分析 | 第68-71页 |
| 4.3 本章小结 | 第71-72页 |
| 第五章 结论与展望 | 第72-75页 |
| 5.1 结论 | 第72-73页 |
| 5.2 展望 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-78页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第78页 |