摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-21页 |
1.1 氟硅酸钠 | 第10-12页 |
1.1.1 氟硅酸钠性质 | 第10页 |
1.1.2 生产现状 | 第10-11页 |
1.1.3 国内外的发展及研究现状 | 第11-12页 |
1.2 氟硅酸钠制备白炭黑 | 第12-13页 |
1.3 可溶性氟硅酸盐的制备方法 | 第13-20页 |
1.3.1 氟硅酸盐概述 | 第13-14页 |
1.3.2 阳离子膜电解法 | 第14-20页 |
1.3.2.1 离子交换膜 | 第14-17页 |
1.3.2.2 电化学方法制备技术 | 第17-20页 |
1.4 课题的研究目的及其内容 | 第20-21页 |
1.4.1 研究目的 | 第20页 |
1.4.2 研究内容 | 第20-21页 |
第二章 阳离子膜电解法制备氟硅酸 | 第21-31页 |
2.1 引言 | 第21页 |
2.2 实验部分 | 第21-23页 |
2.2.1 实验试剂与仪器 | 第21-22页 |
2.2.2 氟硅酸和白炭黑的制备 | 第22-23页 |
2.3 数据分析及样品表征 | 第23-29页 |
2.3.1 探究制备氟硅酸的制备条件 | 第23-24页 |
2.3.2 氟硅酸水解制备白炭黑 | 第24-27页 |
2.3.3 氟化氢氨 | 第27-29页 |
2.4 本章小结 | 第29-31页 |
第三章 阳离子膜电解法制备可溶性氟硅酸盐 | 第31-41页 |
3.1 引言 | 第31页 |
3.2 实验部分 | 第31-33页 |
3.2.1 实验试剂及仪器 | 第31-32页 |
3.2.2 可溶性过渡金属氟硅酸盐的制备 | 第32-33页 |
3.3 样品表征 | 第33-34页 |
3.4 结果讨论 | 第34-40页 |
3.4.1 氟硅酸铜与氟硅酸锌样品的红外(IR)分析 | 第34-35页 |
3.4.2 氟硅酸铜样品X射线衍射(XRD)分析 | 第35-36页 |
3.4.3 氟硅酸铜热重(TG)分析 | 第36-37页 |
3.4.4 氟硅酸铜能量色散X射线光谱(EDX)分析 | 第37-38页 |
3.4.5 氟硅酸锌X射线衍射(XRD)分析 | 第38-39页 |
3.4.6 氟硅酸锌热重(TG)分析 | 第39-40页 |
3.4.7 氟硅酸锌能量色散X射线光谱(EDX)分析 | 第40页 |
3.5 本章小结 | 第40-41页 |
第四章 铜在氟硅酸铜溶液中的电化学行为研究 | 第41-49页 |
4.1 引言 | 第41页 |
4.2 实验部分 | 第41-44页 |
4.2.1 实验试剂及仪器 | 第42页 |
4.2.2 铜在氟硅酸铜溶液中的电化学行为研究 | 第42-44页 |
4.3 结果讨论 | 第44-48页 |
4.3.1 铜在氟硅酸铜溶液中的电化学行为 | 第44-45页 |
4.3.2 扫描速率对铜在氟硅酸铜溶液中的电化学行为影响研究 | 第45-46页 |
4.3.3 温度对铜在氟硅酸铜溶液中的电化学行为影响研究 | 第46-47页 |
4.3.4 铜在氟硅酸铜溶液中的阳极极化曲线 | 第47-48页 |
4.3.5 温度对铜在氟硅酸铜溶液中的阳极极化的影响 | 第48页 |
4.4 本章小结 | 第48-49页 |
第五章 结论 | 第49-51页 |
参考文献 | 第51-58页 |
致谢 | 第58-59页 |
攻读硕士学位期间的研究成果 | 第59页 |