摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第15-29页 |
1.1 染料废水的来源、特点及其危害 | 第15-16页 |
1.1.1 染料废水的来源 | 第15页 |
1.1.2 染料废水的特点 | 第15-16页 |
1.1.3 染料废水的危害 | 第16页 |
1.2 染料废水的处理方法 | 第16-21页 |
1.2.1 生物法处理染料废水 | 第17页 |
1.2.2 物理法处理染料废水 | 第17-18页 |
1.2.3 化学法处理染料废水 | 第18-20页 |
1.2.4 光催化技术处理染料废水 | 第20-21页 |
1.3 光催化技术的研究现状 | 第21-23页 |
1.3.1 光催化技术的发展 | 第21页 |
1.3.2 光催化降解有机物的相关机理 | 第21-22页 |
1.3.3 影响光催化作用的相关因素 | 第22-23页 |
1.4 新型的半导体光催化材料 | 第23-26页 |
1.4.1 半导体复合材料在光催化技术上的应用 | 第23-24页 |
1.4.2 三维半导体材料在光催化技术上的应用 | 第24-25页 |
1.4.3 锑化物半导体在光催化技术上的应用 | 第25-26页 |
1.5 研究背景、意义及研究内容 | 第26-29页 |
1.5.1 研究背景与意义 | 第26-27页 |
1.5.2 研究内容 | 第27-29页 |
第2章 三维球形的硫化锑与氯氧化锑复合材料的制备及表征 | 第29-37页 |
2.1 前言 | 第29-30页 |
2.2 实验材料与仪器 | 第30页 |
2.2.1 实验药品 | 第30页 |
2.2.2 仪器设备 | 第30页 |
2.3 Sb_2S_3/Sb_4O_5Cl_2 复合材料的制备方法 | 第30-32页 |
2.4 Sb_2S_3/Sb_4O_5Cl_2 复合材料的表征及分析 | 第32-36页 |
2.4.1 晶相结构表征(XRD) | 第32-33页 |
2.4.2 X射线光电子能谱(XPS) | 第33-34页 |
2.4.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第34-35页 |
2.4.4 透射电子显微镜(TEM)和元素映射(Element Mapping) | 第35-36页 |
2.5 本章小结 | 第36-37页 |
第3章 复合材料的制备条件以及复合与成球的机理 | 第37-45页 |
3.1 前言 | 第37页 |
3.2 实验部分 | 第37-39页 |
3.2.1 实验药品和主要仪器 | 第37-38页 |
3.2.2 实验设计 | 第38-39页 |
3.3 p H对三维球形Sb_2S_3/Sb_4O_5Cl_2 复合材料制备的影响 | 第39页 |
3.4 温度对三维球形Sb_2S_3/Sb_4O_5Cl_2 复合材料制备的影响 | 第39-40页 |
3.5 三维球形Sb_2S_3/Sb_4O_5Cl_2 复合材料制备的水热过程 | 第40-42页 |
3.6 HCl和Na OH的浓度的影响 | 第42-43页 |
3.7 三维球形Sb_2S_3/Sb_4O_5Cl_2 复合材料形成的机理 | 第43-44页 |
3.8 本章小结 | 第44-45页 |
第4章 三维球形Sb_2S_3/Sb_4O_5Cl_2 复合材料光催化活性的研究 | 第45-58页 |
4.1 前言 | 第45页 |
4.2 实验部分 | 第45-47页 |
4.2.1 实验药品和主要仪器 | 第45-46页 |
4.2.2 对照实验设计 | 第46-47页 |
4.3 光催化活性研究 | 第47-49页 |
4.3.1 光催化降解甲基橙(MO)实验设计 | 第47页 |
4.3.2 光催化降解亚甲基蓝(MB)实验设计 | 第47-49页 |
4.3.3 光催化机理实验设计 | 第49页 |
4.3.4 稳定性评价实验设计 | 第49页 |
4.4 紫外-可见漫反射光谱(Uv-vis-DRS) | 第49-51页 |
4.5 比表面积( BET) | 第51-53页 |
4.6 荧光光谱(PL) | 第53页 |
4.7 光催化降解染料的实验结果和讨论 | 第53-57页 |
4.7.1 光催化机理研究 | 第55-56页 |
4.7.2 稳定性评价 | 第56-57页 |
4.8 本章小结 | 第57-58页 |
结论与展望 | 第58-60页 |
参考文献 | 第60-68页 |
附录A 攻读学位期间所发表的学位论文目录 | 第68-69页 |
附录B 攻读学位期间所申请的专利目录 | 第69-70页 |
致谢 | 第70页 |