| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-14页 |
| 1.1 带状电子注器件的发展 | 第10-11页 |
| 1.2 带状电子注器件的发展现状 | 第11-12页 |
| 1.3 本文研究内容 | 第12-14页 |
| 第二章 周期聚焦磁场理论分析 | 第14-23页 |
| 2.1 周期磁场聚焦原理 | 第14-16页 |
| 2.2 周期磁场聚焦参数选取对聚焦影响的分析 | 第16-18页 |
| 2.2.1 衡量周期磁场聚焦可行性的参数 | 第16-17页 |
| 2.2.2 周期磁场聚焦系统中磁场强度对电子注传输的影响 | 第17-18页 |
| 2.3 周期磁场的二维仿真 | 第18-22页 |
| 2.4 本章小结 | 第22-23页 |
| 第三章 带状电子注电荷场分布的理论分析 | 第23-30页 |
| 3.1 矩形带状电子注空间电荷场 | 第23-25页 |
| 3.2 椭圆带状电子注空间电荷场分析 | 第25-27页 |
| 3.3 带状电子注产生不稳定性仿真 | 第27-29页 |
| 3.3.1 带状矩形电子注产生Diocotron不稳定性仿真 | 第27-28页 |
| 3.3.2 带状椭圆形电子注产生Diocotron不稳定性仿真 | 第28-29页 |
| 3.4 本章小结 | 第29-30页 |
| 第四章 Wiggler聚焦系统的设计 | 第30-48页 |
| 4.1 Wiggler聚焦磁场分析 | 第30-35页 |
| 4.2 Wiggler聚焦系统的设计 | 第35-38页 |
| 4.3 Wiggler聚焦磁场的三维仿真 | 第38-46页 |
| 4.3.1 Wiggler聚焦系统中磁场与电子注不匹配出现的问题 | 第38-42页 |
| 4.3.2 wiggler聚焦电子注产生偏转的原因 | 第42-43页 |
| 4.3.3 Wiggler聚焦系统中磁场与电子注匹配 | 第43-46页 |
| 4.4 本章小结 | 第46-48页 |
| 第五章 周期凹凸磁场聚焦分析与设计 | 第48-62页 |
| 5.1 周期凹凸磁场聚焦系统磁场的分布 | 第48-50页 |
| 5.2 周期凹凸磁场聚焦系统的设计 | 第50-52页 |
| 5.3 周期凹凸磁场聚焦系统的三维仿真 | 第52-56页 |
| 5.4 带偏移的周期凹凸磁场聚焦系统 | 第56-61页 |
| 5.5 本章小结 | 第61-62页 |
| 第六章 总结 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
| 攻读硕士期间取得的成果 | 第68-69页 |
