硅纳米粒子的发光调控及还原性能的研究
| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-39页 |
| ·引言 | 第13-14页 |
| ·纳米硅的光致发光机制 | 第14-19页 |
| ·量子限制模型 | 第15-16页 |
| ·量子限制效应-发光中心模型 | 第16-17页 |
| ·与Si/SiO_2界面缺陷有关的光致发光机制 | 第17-19页 |
| ·纳米硅的制备方法 | 第19-27页 |
| ·电化学腐蚀法 | 第19-20页 |
| ·化学气相沉积法 | 第20-21页 |
| ·等离子体化学气相沉积法 | 第21-23页 |
| ·湿化学法 | 第23-27页 |
| ·基于纳米硅的新材料制备及性能研究进展 | 第27-35页 |
| ·基于纳米硅的新材料制备 | 第27-30页 |
| ·纳米硅发光性能的改善 | 第30-33页 |
| ·纳米硅在各个领域的应用 | 第33-35页 |
| ·基于半导体量子点的白光LED | 第35-37页 |
| ·课题的提出与意义 | 第37-39页 |
| 第二章 硅纳米粒子的制备、修饰及发光性能的研究 | 第39-53页 |
| ·实验部分 | 第40-41页 |
| ·实验材料与试剂 | 第40页 |
| ·硅纳米粒子制备与表面修饰 | 第40-41页 |
| ·测试仪器 | 第41页 |
| ·制备条件的优化 | 第41-43页 |
| ·SiCl_4投入量的影响 | 第42-43页 |
| ·反应时间的影响 | 第43页 |
| ·不同表面修饰基团的硅纳米粒子的性质比较 | 第43-49页 |
| ·三种硅纳米粒子的粒径和分布 | 第44页 |
| ·三种硅纳米粒子的光学性能比较 | 第44-49页 |
| ·硅纳米粒子白色荧光的实现 | 第49-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第三章 硅纳米粒子对重金属离子还原性能的研究 | 第53-67页 |
| ·实验部分 | 第54-56页 |
| ·实验材料与试剂 | 第54页 |
| ·硅纳米粒子的制备 | 第54-55页 |
| ·硅纳米粒子与重金属离子反应 | 第55页 |
| ·测试仪器 | 第55-56页 |
| ·硅纳米粒子还原Au~(3+) | 第56-59页 |
| ·硅纳米粒子的粒径 | 第56页 |
| ·产物的表征 | 第56-58页 |
| ·反应机理 | 第58-59页 |
| ·硅纳米粒子还原其他重金属离子 | 第59-62页 |
| ·硅纳米粒子还原Cr~(6+) | 第59-60页 |
| ·硅纳米粒子还原Ag~+ | 第60-61页 |
| ·硅纳米粒子还原Cu~(2+) | 第61-62页 |
| ·硅纳米粒子的还原能力 | 第62页 |
| ·利用硅纳米粒子还原特性测定浓度与产率 | 第62-66页 |
| ·目的与原理 | 第62-63页 |
| ·实验步骤 | 第63页 |
| ·Cr~(6+)紫外吸收标准曲线 | 第63-64页 |
| ·硅纳米粒子的浓度 | 第64-65页 |
| ·硅纳米粒子的产率 | 第65页 |
| ·实验误差分析 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第四章 主要结论与创新点 | 第67-69页 |
| ·主要结论 | 第67页 |
| ·创新点 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-76页 |
| 作者简介及在校期间取得得科研成果 | 第76页 |
