| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-13页 |
| ·研究背景 | 第7页 |
| ·半导体光催化的基本原理和研究现状 | 第7-8页 |
| ·半导体催化剂的改性技术 | 第8-10页 |
| ·离子掺杂 | 第8页 |
| ·贵金属沉积 | 第8-9页 |
| ·染料敏化 | 第9页 |
| ·复合半导体 | 第9-10页 |
| ·含铋复合氧化物的研究 | 第10-11页 |
| ·水滑石研究简介 | 第11-12页 |
| ·选题的目的与意义 | 第12-13页 |
| 第二章 实验部分 | 第13-16页 |
| ·实验药品 | 第13-14页 |
| ·主要仪器 | 第14页 |
| ·催化剂的表征方法 | 第14-15页 |
| ·XRD(X-射线衍射) | 第14页 |
| ·FT-IR(傅立叶变换红外) | 第14页 |
| ·SEM和TEM (扫描和透射电子显微镜) | 第14-15页 |
| ·N2吸附-脱附 | 第15页 |
| ·UV-vis DRS(紫外-可见漫反射光谱) | 第15页 |
| ·催化剂的光催化性能测试 | 第15-16页 |
| 第三章 Bi_2MoO_6/Ni-FeLDH复合材料的制备及可见光催化性能 | 第16-28页 |
| ·引言 | 第16页 |
| ·催化剂的制备 | 第16-17页 |
| ·制备Bi_2MoO_6 | 第16-17页 |
| ·制备Bi_2MoO_6/Ni-FeLDH复合材料 | 第17页 |
| ·催化剂的表征 | 第17-22页 |
| ·X-射线衍射表征 | 第17-18页 |
| ·傅立叶红外光谱分析 | 第18页 |
| ·扫描电镜和透射电镜分析 | 第18-20页 |
| ·N2物理吸附-脱附曲线分析 | 第20-21页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第21-22页 |
| ·催化剂的可见光催化性能研究 | 第22-23页 |
| ·光催化降解反应动力学分析 | 第23-24页 |
| ·光催化反应机理 | 第24-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第四章 Fe_3O_4/Ni-Al-CeLDH/Bi_2WO_6复合材料的制备及可见光催化性能 | 第28-37页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·催化剂的制备 | 第28-29页 |
| ·制备Fe_3O_4 | 第28-29页 |
| ·制备Bi_2WO_6 | 第29页 |
| ·制备Fe_3O_4/Ni-Al-CeLDH/Bi_2WO_6 | 第29页 |
| ·催化剂的表征 | 第29-33页 |
| ·X-射线衍射光谱分析 | 第29-30页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第30页 |
| ·紫外可见漫反射光谱分析 | 第30-31页 |
| ·透射电镜分析 | 第31-32页 |
| ·磁性能分析 | 第32-33页 |
| ·催化剂的光催化性能研究 | 第33-34页 |
| ·光催化降解反应动力学分析 | 第34-35页 |
| ·光催化反应机理 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第五章 结论 | 第37-38页 |
| 致谢 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-47页 |
| 作者简介 | 第47页 |
| 攻读硕士学位期间研究成果 | 第47页 |
