| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-19页 |
| ·分子印迹 | 第12-13页 |
| ·分子印迹技术简述 | 第12页 |
| ·分子印迹的原理和方法 | 第12页 |
| ·分子印迹聚合物的制备方法 | 第12-13页 |
| ·分子印迹传感器的制备 | 第13-14页 |
| ·直接法 | 第13-14页 |
| ·间接法 | 第14页 |
| ·分子印迹电化学传感器的分类 | 第14-16页 |
| ·电化学式 | 第14-15页 |
| ·质量式 | 第15-16页 |
| ·光学式 | 第16页 |
| ·纳米材料在分子印迹电化学传感器中的应用 | 第16-17页 |
| ·石墨烯 | 第16-17页 |
| ·分子印迹传感器的应用 | 第17-19页 |
| ·农药残留分析 | 第17-19页 |
| 第二章 石墨烯掺杂金纳米粒子增敏速灭威分子印迹电化学传感器 | 第19-31页 |
| ·前言 | 第19页 |
| ·实验部分 | 第19-20页 |
| ·仪器与试剂 | 第19-20页 |
| ·石墨烯掺杂金纳米粒子修饰电极的制备 | 第20页 |
| ·速灭威分子印迹聚合溶液的制备 | 第20页 |
| ·纳米石墨烯金纳米粒子速灭威印迹电极和非印迹电极的制备 | 第20页 |
| ·电化学检测方法 | 第20页 |
| ·结果与讨论 | 第20-30页 |
| ·不同修饰电极的扫描电镜图 | 第20-21页 |
| ·分子印迹聚合过程 | 第21-22页 |
| ·实验条件的优化 | 第22-23页 |
| ·MI P传感器的电化学表征 | 第23-25页 |
| ·速灭威印迹电极对速灭威的检测及响应 | 第25-26页 |
| ·MI P传感器的特性分析 | 第26-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 石墨烯掺杂金纳米粒子增敏克百威分子印迹电化学传感器 | 第31-42页 |
| ·前言 | 第31页 |
| ·实验部分 | 第31-32页 |
| ·仪器与试剂 | 第31页 |
| ·rG O@Au/GCE电极的制备 | 第31页 |
| ·克百威MIPs的制备 | 第31-32页 |
| ·还原石墨烯掺杂金纳米粒子印迹电极和非印迹电极的制备 | 第32页 |
| ·结果与讨论 | 第32-41页 |
| ·不同修饰电极的扫描电镜图 | 第32-33页 |
| ·分子印迹聚合过程 | 第33页 |
| ·实验条件的优化 | 第33-35页 |
| ·MI P传感器的电化学表征 | 第35-37页 |
| ·CB F-MIP对C BF的检测及响应 | 第37页 |
| ·MI P传感器的特性分析 | 第37-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 石墨烯掺杂金纳米粒子增敏灭除威分子印迹电化学传感器 | 第42-53页 |
| ·前言 | 第42页 |
| ·实验部分 | 第42-44页 |
| ·仪器与试剂 | 第42页 |
| ·rG O@Au/ GCE电极的制备 | 第42页 |
| ·灭除威MIPs的制备 | 第42-43页 |
| ·还原石墨烯掺杂金纳米粒子分子印迹电极和非印迹电极的制备 | 第43页 |
| ·不同修饰电极的扫描电镜图 | 第43-44页 |
| ·实验条件的优化 | 第44-52页 |
| ·洗脱溶剂及时间的选择 | 第44-45页 |
| ·孵化溶液pH的影响 | 第45页 |
| ·孵化时间的选择 | 第45-46页 |
| ·MI P传感器的电化学表征 | 第46-48页 |
| ·MI P传感器的特性分析 | 第48-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 石墨烯电沉积金纳米粒子增敏西维因分子印迹电化学传感器 | 第53-65页 |
| ·前言 | 第53页 |
| ·实验部分 | 第53-54页 |
| ·仪器与试剂 | 第53-54页 |
| ·石墨烯电沉积金纳米粒子修饰电极的制备 | 第54页 |
| ·西维因分子聚合物的制备 | 第54页 |
| ·纳米石墨烯电沉积金纳米粒子印迹修饰电极和非印迹电极的制备 | 第54页 |
| ·结果与讨论 | 第54-64页 |
| ·不同修饰电极的扫描电镜图 | 第54-55页 |
| ·实验条件的优化 | 第55-59页 |
| ·分子印迹膜电化学表征 | 第59-61页 |
| ·传感器的分析特性 | 第61-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-77页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
