单晶硅表面钝化及HIT电池性能提升研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-10页 |
| 第1章 引言 | 第10-18页 |
| ·能源发展与环境问题 | 第10-11页 |
| ·光伏发电技术 | 第11-14页 |
| ·高效太阳能电池 | 第14-16页 |
| ·HIT电池的结构与特点 | 第16-17页 |
| ·本文研究内容 | 第17-18页 |
| 第2章 实验方法 | 第18-30页 |
| ·制备方法 | 第18-21页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积（PECVD） | 第18-19页 |
| ·物理气相沉积（PVD） | 第19-20页 |
| ·RCA清洗技术 | 第20-21页 |
| ·表征方法 | 第21-30页 |
| ·少子寿命测试 | 第21-22页 |
| ·傅立叶变换红外吸收谱分析（FTIR） | 第22-23页 |
| ·拉曼散射谱分析（Raman） | 第23-25页 |
| ·电导率测量 | 第25页 |
| ·I-V测试 | 第25-27页 |
| ·量子效率测试 | 第27-30页 |
| 第3章 单晶硅表面钝化 | 第30-54页 |
| ·本征非晶硅薄膜沉积 | 第30-35页 |
| ·实验 | 第30页 |
| ·硅烷浓度（SC）对非晶硅薄膜性能的影响 | 第30-32页 |
| ·沉积功率对非晶硅薄膜性能的影响 | 第32-34页 |
| ·沉积气压对非晶硅薄膜性能的影响 | 第34-35页 |
| ·表面处理对少子寿命的影响 | 第35-37页 |
| ·实验 | 第35-36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-37页 |
| ·退火对少子寿命的影响 | 第37-40页 |
| ·掺杂非晶硅薄膜沉积 | 第40-48页 |
| ·实验 | 第40页 |
| ·工艺参数对n型非晶硅薄膜性能的影响 | 第40-45页 |
| ·工艺参数对p型非晶硅薄膜性能的影响 | 第45-48页 |
| ·本征/掺杂叠层后钝化效果研究 | 第48-51页 |
| ·实验 | 第48-49页 |
| ·叠层结构钝化效果 | 第49-51页 |
| ·小结 | 第51-54页 |
| 第4章 HIT电池性能研究 | 第54-70页 |
| ·有效少子寿命用于HIT工艺控制 | 第54-60页 |
| ·实验 | 第54-55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-60页 |
| ·p层优化对HIT电池性能的影响 | 第60-64页 |
| ·实验 | 第60页 |
| ·结果与讨论 | 第60-64页 |
| ·效率损失分析 | 第64-67页 |
| ·小结 | 第67-70页 |
| 第5章 结论 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-76页 |
| 致谢 | 第76-78页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第78页 |
