摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
第1章 绪 论 | 第9-24页 |
·引言 | 第9-10页 |
·光催化的研究进展 | 第10-15页 |
·光催化基本原理 | 第10-11页 |
·光催化技术的应用 | 第11-14页 |
·光催化的研究现状 | 第14-15页 |
·光催化剂的改性 | 第15-18页 |
·贵金属负载 | 第15-16页 |
·离子掺杂 | 第16-17页 |
·半导体复合 | 第17-18页 |
·铋盐半导体光催化剂 | 第18-20页 |
·钼酸铋光催化剂 | 第18-19页 |
·钨酸铋光催化剂 | 第19-20页 |
·石墨烯材料 | 第20-21页 |
·类石墨烯材料 | 第21-22页 |
·本论文研究的内容 | 第22-24页 |
第2章 实验部分 | 第24-29页 |
·实验试剂 | 第24-25页 |
·实验仪器及设备 | 第25页 |
·实验合成方法 | 第25-26页 |
·催化剂的表征 | 第26-28页 |
·X 射线衍射分析 | 第26页 |
·扫描电子显微镜分析 | 第26页 |
·透射电子显微镜分析 | 第26-27页 |
·傅里叶红外光谱分析(FT-IR) | 第27页 |
·拉曼光谱分析(Raman) | 第27页 |
·紫外可见漫反射 | 第27页 |
·X 射线光电子能谱(XPS) | 第27页 |
·电化学性能测试 | 第27页 |
·热重分析 | 第27-28页 |
·催化剂的性能测试 | 第28-29页 |
第3章 Graphene-Bi_2MoO_6/Bi_(3.64)Mo_(0.36)O_(6.55)复合物的制备及其光催化性能研究 | 第29-49页 |
·材料的制备 | 第29-30页 |
·氧化石墨烯(graphene oxide, GO)的合成 | 第29页 |
·Bi_2MoO_6/Bi_(3.64)Mo_(0.36)O_(6.55)的合成 | 第29-30页 |
·Graphene-Bi_2MoO_6/Bi_(3.64)Mo_(0.36)O_(6.55)的合成 | 第30页 |
·G-BMO 复合物的结构表征 | 第30-39页 |
·X-射线衍射(XRD) | 第30-33页 |
·SEM 及 TEM 分析 | 第33-34页 |
·傅里叶红外光谱(FT-IR) | 第34-35页 |
·拉曼光谱分析(Raman) | 第35-36页 |
·X 射线光电子能谱(XPS) | 第36-37页 |
·紫外可见漫反射(UV-vis) | 第37-38页 |
·热重分析(UV-vis) | 第38-39页 |
·G-BMO 复合物形成机理研究 | 第39-40页 |
·光催化性能研究 | 第40-44页 |
·G-BMO 光催化机理研究 | 第44-47页 |
·电化学性能测试 | 第44-46页 |
·G-BMO 催化机理探究 | 第46-47页 |
·本章小结 | 第47-49页 |
第4章 层状类石墨烯WS_2-Bi_2WO_6/Bi_(3.84)W_(0.16)O_(6.24)复合物的制备及其光催化性能研究 | 第49-62页 |
·材料的制备 | 第49-50页 |
·层状类石墨烯材料 WS_2的制备 | 第49页 |
·Bi_2WO_6/Bi_(3.84)W_(0.16)O_(6.24)的合成 | 第49-50页 |
·层状 WS_2-Bi_2WO_6/Bi_(3.84)W_(0.16)O_(6.24)的合成 | 第50页 |
·G-BMO 复合物的结构表征 | 第50-58页 |
·X-射线衍射(XRD) | 第50-52页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第52-53页 |
·透射电子显微镜(TEM) | 第53-54页 |
·能量色散谱分析(EDS) | 第54页 |
·X 射线光电子能谱(XPS) | 第54-55页 |
·拉曼光谱分析(Raman) | 第55-56页 |
·氮吸附脱附测试 | 第56-57页 |
·Zeta 电位测试 | 第57-58页 |
·层状 WS_2-BWO 复合物形成机理研究 | 第58-59页 |
·层状 WS_2-BWO 光催化性能研究 | 第59-61页 |
·本章小结 | 第61-62页 |
第5章 总结与展望 | 第62-64页 |
·总结 | 第62页 |
·展望 | 第62-64页 |
参考文献 | 第64-70页 |
攻读硕士期间获得的成果 | 第70-72页 |
致谢 | 第72-73页 |