| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·纳米材料 | 第10页 |
| ·纳米材料的结构和特性 | 第10-11页 |
| ·纳米材料的体积效应 | 第10页 |
| ·纳米材料的表面与界面效应 | 第10-11页 |
| ·纳米材料的量子尺寸效应 | 第11页 |
| ·半导体纳米材料 | 第11-13页 |
| ·半导体纳米材料的光催化特性 | 第11-12页 |
| ·半导体纳米粒子的能带结构 | 第12页 |
| ·半导体纳米粒子的空间电荷层 | 第12页 |
| ·半导体纳米粒子的吸附特性 | 第12页 |
| ·半导体纳米粒子的高电荷分离及转移效率 | 第12-13页 |
| ·半导体纳米粒子光激发电位浮动效应 | 第13页 |
| ·纳米 TiO_2半导体 | 第13页 |
| ·纳米 TiO_2的制备 | 第13-15页 |
| ·气相法 | 第14页 |
| ·液相法 | 第14页 |
| ·其它方法 | 第14-15页 |
| ·TiO_2光催化反应及应用 | 第15-18页 |
| ·TiO_2光催化反应机理 | 第15-16页 |
| ·TiO_2光催化活性的影响因素 | 第16-18页 |
| ·TiO_2纳米半导体的应用 | 第18-19页 |
| ·TiO_2纳米线 | 第19-22页 |
| ·TiO_2纳米线的结构特性 | 第19-20页 |
| ·TiO_2纳米线的制备方法 | 第20-22页 |
| ·TiO_2纳米线的修饰 | 第22页 |
| ·研究的主要内容和目的 | 第22-24页 |
| ·TiO_2纳米线阵列的制备 | 第23页 |
| ·Ag 纳米粒子的负载 | 第23页 |
| ·Ag_3PO_4纳米粒子的负载 | 第23-24页 |
| 第二章 FTO 导电玻璃基底表面 TiO_2纳米线阵列的合成 | 第24-33页 |
| ·实验部分 | 第24-26页 |
| ·实验试剂 | 第24页 |
| ·实验仪器 | 第24-25页 |
| ·TiO_2纳米线阵列的制备 | 第25-26页 |
| ·样品的表征 | 第26页 |
| ·结果与讨论 | 第26-32页 |
| ·XRD 表征 | 第26-27页 |
| ·微观形貌表征 | 第27-29页 |
| ·BET 表征 | 第29-30页 |
| ·TiO_2纳米线阵列在 FTO 上的生长规律 | 第30-32页 |
| ·小结 | 第32-33页 |
| 第三章 Ag/TiO_2纳米线/FTO 的合成以及光催化性能究 | 第33-51页 |
| ·实验部分 | 第33-35页 |
| ·试剂 | 第33页 |
| ·实验仪器 | 第33-34页 |
| ·Ag/TiO_2纳米线阵列的制备 | 第34页 |
| ·样品的表征 | 第34-35页 |
| ·光催化活性的表征 | 第35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-50页 |
| ·拉曼光谱表征 | 第35-36页 |
| ·微观形貌表征 | 第36-37页 |
| ·EDX 表征 | 第37-38页 |
| ·XPS 表征 | 第38-39页 |
| ·漫反射吸收光谱表征 | 第39-40页 |
| ·光催化性能表征 | 第40-49页 |
| ·光催化机理模型 | 第49-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 第四章 Ag_3PO_4/TiO_2纳米线/FTO 合成及光催化性能研究 | 第51-64页 |
| ·实验 | 第51-52页 |
| ·实验试剂 | 第51页 |
| ·实验仪器 | 第51页 |
| ·样品的制备 | 第51-52页 |
| ·样品的表征 | 第52页 |
| ·光催化活性表征 | 第52页 |
| ·结果与讨论 | 第52-62页 |
| ·TEM 表征 | 第52-53页 |
| ·EDX 表征 | 第53-54页 |
| ·Mott-schottky 曲线 | 第54-55页 |
| ·光电流曲线 | 第55-56页 |
| ·紫外-可见漫反射吸收光谱 | 第56页 |
| ·光催化活性研究 | 第56-62页 |
| ·小结 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
