石墨烯的生长制备及其光电性质研究
| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-41页 |
| ·石墨稀综述 | 第11-20页 |
| ·石墨烯的晶体结构 | 第11-14页 |
| ·石墨稀的研究历史 | 第14-15页 |
| ·石墨烯的电子结构 | 第15-16页 |
| ·石墨烯的基本特性 | 第16-20页 |
| ·石墨稀的制备 | 第20-26页 |
| ·分离法 | 第21-24页 |
| ·化学合成法 | 第24-25页 |
| ·有机合成法 | 第25-26页 |
| ·切割碳纳米管法 | 第26页 |
| ·石墨烯的光电性质应用及研究进展 | 第26-31页 |
| ·基于石墨烯的透明电极 | 第26-28页 |
| ·基于石墨烯的光电器件 | 第28-29页 |
| ·超高速晶体管 | 第29-30页 |
| ·化学、生物、机械传感器 | 第30-31页 |
| ·选题依据及主要研究内容 | 第31-32页 |
| 参考文献 | 第32-41页 |
| 第二章 化学气相沉积法制备石墨烯 | 第41-87页 |
| ·石墨烯的制备与表征相关 | 第41-45页 |
| ·实验设备 | 第41-45页 |
| ·石墨烯的层数判定 | 第45-52页 |
| ·石墨烯的层数判定方法 | 第45-46页 |
| ·微机械分离法制备石墨烯 | 第46-48页 |
| ·石墨烯的光学显微图像分析 | 第48-50页 |
| ·石墨烯的拉曼光谱表征 | 第50-52页 |
| ·在镍基底上制备石墨烯 | 第52-65页 |
| ·实验背景 | 第53-54页 |
| ·实验目的 | 第54页 |
| ·生长机理 | 第54-55页 |
| ·实验内容 | 第55页 |
| ·制备过程 | 第55-56页 |
| ·石墨烯的转移 | 第56-57页 |
| ·实验结果 | 第57-64页 |
| ·小结 | 第64-65页 |
| ·在铜基底上制备石墨烯 | 第65-82页 |
| ·实验背景 | 第65-67页 |
| ·实验目的 | 第67页 |
| ·生长机理 | 第67-68页 |
| ·实验主要内容 | 第68-69页 |
| ·制备过程 | 第69-70页 |
| ·石墨烯的转移 | 第70页 |
| ·实验结果 | 第70-81页 |
| ·小结 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-87页 |
| 第三章 石墨烯样品的转移工艺 | 第87-111页 |
| ·实验背景 | 第87-88页 |
| ·实验目的及实验方法 | 第88-90页 |
| ·干法转移石墨烯 | 第90-96页 |
| ·PDMS的制备方法 | 第90-91页 |
| ·使用PDMS转移石墨烯 | 第91-96页 |
| ·湿法转移石墨烯 | 第96-107页 |
| ·转移步骤 | 第96-97页 |
| ·实验注意事项 | 第97-98页 |
| ·转移样品的表面形貌及电学性质 | 第98-101页 |
| ·转移工艺的改进与表征 | 第101-105页 |
| ·不同的铜腐蚀液对石墨烯表面形貌的影响 | 第105-107页 |
| ·小结 | 第107-108页 |
| 参考文献 | 第108-111页 |
| 第四章 石墨烯的光电性质研究 | 第111-141页 |
| ·单层石墨烯的光电性质 | 第111-115页 |
| ·单层石墨烯的电子结构 | 第112-113页 |
| ·石墨烯的光吸收特性 | 第113页 |
| ·石墨烯光致跃迀的电场调制 | 第113-115页 |
| ·基于石墨稀的光电调制开关 | 第115-118页 |
| ·实验内容 | 第116-117页 |
| ·实验结果 | 第117-118页 |
| ·电荷掺杂单层石墨烯中的拉曼散射过程 | 第118-128页 |
| ·实验内容 | 第119-121页 |
| ·实验结果 | 第121-125页 |
| ·电荷掺杂石墨稀中的热电子发光效应 | 第125-128页 |
| ·双层石墨烯的光电性质 | 第128-135页 |
| ·实验内容 | 第129-130页 |
| ·实验结果 | 第130-132页 |
| ·双层石墨烯中的声子激子的可调法诺共振 | 第132-135页 |
| ·本章小结 | 第135-136页 |
| 参考文献 | 第136-141页 |
| 第五章 总结与展望 | 第141-145页 |
| ·主要研究内容与结论 | 第141-143页 |
| ·未来工作展望 | 第143-145页 |
| 作者简历 | 第145-147页 |
| 博士期间工作成果 | 第147-151页 |
| 致谢 | 第151-152页 |
