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CVD法纳米硅系复合薄膜的微结构、性能及新型无光污染节能镀膜玻璃的研究

中文摘要第1-5页
英文摘要第5-10页
第一章 引言第10-11页
第二章 文献综述第11-28页
 2.1 有关纳米复合薄膜材料第11-12页
 2.2 纳米镶嵌复合薄膜的制备第12-15页
  2.2.1 溶胶-凝胶法(sol-gel)第12页
  2.2.2 电沉积法(electrophoretic coating)第12页
  2.2.3 共溅射法第12-13页
  2.2.4 热蒸发第13页
  2.2.5 离子注入第13页
  2.2.6 高速超微粒子沉积法第13-14页
  2.2.7 PECVD共沉积第14页
  2.2.8 热CVD第14-15页
 2.3 纳米镶嵌复合薄膜的特性第15-18页
  2.3.1 量子点材料第15-16页
  2.3.2 其他纳米镶嵌复合薄膜第16-18页
 2.4 硅系半导体薄膜材料第18-20页
  2.4.1 纳米硅(nc-Si:H)第18-19页
  2.4.2 碳化硅第19-20页
 2.5 有关纳米硅发光的几个主要问题第20-22页
  2.5.1 纳米硅的电子结构第20-21页
  2.5.2 纳米硅发光的模型第21-22页
   2.5.2.1 纯粹量子限制模型第21页
   2.5.2.2 表面态发光模型第21-22页
 2.6 新型无光污染节能镀膜玻璃的研制与发展第22-26页
  2.6.1 节能镀膜玻璃的研制与发展第23-24页
  2.6.2 有关浮法玻璃的在线镀膜技术第24-25页
  2.6.3 新型无光污染节能镀膜玻璃的研制第25-26页
 2.7 选题角度的确立第26页
 参考文献第26-28页
第三章 实验第28-35页
 3.1 实验设备第28-29页
 3.2 原料第29页
 3.3 实验准备过程第29-30页
 3.4 试样制备过程第30-31页
 3.5 测试方法第31-35页
  3.5.1 薄膜成分的测试第31页
  3.5.2 薄膜结构的测试第31-33页
  3.5.3 薄膜的厚度第33页
  3.5.4 薄膜光透射、反射率的测定第33-34页
  3.5.5 薄膜光致发光的测定第34-35页
第四章 纳米硅系复合薄膜的微结构与发光性能的研究第35-56页
 4.1 引言第35页
 4.2 纳米复合薄膜微结构的分析第35-39页
 4.3 纳米复合薄膜的光致发光性能第39-41页
  4.3.1 退火温度系列第40页
  4.3.2 退火时间系列第40页
  4.3.3 发光机理的分析第40-41页
 4.4 小结第41-42页
 参考文献第42-56页
第五章 无光污染(减反射)镀膜薄膜的开发研究第56-91页
 5.1 无光污染镀膜玻璃的理论研究与计算第56-60页
  5.1.1 玻璃镀层的微结构改性第56-57页
  5.1.2 玻璃镀层的梯度化第57-60页
 5.2 实验手段的选择第60-61页
 5.3 实验结果的分析与讨论第61-76页
  5.3.1 退火处理与复合薄膜界面、组成、形貌与结构的关系第61-67页
   5.3.1.1 退火处理与复合薄膜界面的关系第61-63页
   5.3.1.2 退火处理与复合薄膜组成的关系第63-65页
   5.3.1.3 退火处理与复合薄膜表面形貌及内部结构的关系第65-67页
  5.3.2 退火处理中氧化过程的机理分析第67-69页
  5.3.3 火处理与镀膜玻璃的光学性能第69-74页
   5.3.3.1 退火温度对于复合薄膜光学性能的影响第70-73页
   5.3.3.2 退火时间对于复合薄膜光学性能的影响第73-74页
   5.3.3.3 退火气氛对于复合薄膜光学性能的影响第74页
  5.3.4 退火处理与复合薄膜的化学稳定性第74-76页
   5.3.4.1 退火处理对于复合薄膜耐碱性的影响第75-76页
 5.4 小结第76-77页
 参考文献第77-91页
第六章 结论第91-93页
攻读硕士期间发表的论文第93-94页
致谢第94页

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