中文摘要 | 第1-5页 |
英文摘要 | 第5-10页 |
第一章 引言 | 第10-11页 |
第二章 文献综述 | 第11-28页 |
2.1 有关纳米复合薄膜材料 | 第11-12页 |
2.2 纳米镶嵌复合薄膜的制备 | 第12-15页 |
2.2.1 溶胶-凝胶法(sol-gel) | 第12页 |
2.2.2 电沉积法(electrophoretic coating) | 第12页 |
2.2.3 共溅射法 | 第12-13页 |
2.2.4 热蒸发 | 第13页 |
2.2.5 离子注入 | 第13页 |
2.2.6 高速超微粒子沉积法 | 第13-14页 |
2.2.7 PECVD共沉积 | 第14页 |
2.2.8 热CVD | 第14-15页 |
2.3 纳米镶嵌复合薄膜的特性 | 第15-18页 |
2.3.1 量子点材料 | 第15-16页 |
2.3.2 其他纳米镶嵌复合薄膜 | 第16-18页 |
2.4 硅系半导体薄膜材料 | 第18-20页 |
2.4.1 纳米硅(nc-Si:H) | 第18-19页 |
2.4.2 碳化硅 | 第19-20页 |
2.5 有关纳米硅发光的几个主要问题 | 第20-22页 |
2.5.1 纳米硅的电子结构 | 第20-21页 |
2.5.2 纳米硅发光的模型 | 第21-22页 |
2.5.2.1 纯粹量子限制模型 | 第21页 |
2.5.2.2 表面态发光模型 | 第21-22页 |
2.6 新型无光污染节能镀膜玻璃的研制与发展 | 第22-26页 |
2.6.1 节能镀膜玻璃的研制与发展 | 第23-24页 |
2.6.2 有关浮法玻璃的在线镀膜技术 | 第24-25页 |
2.6.3 新型无光污染节能镀膜玻璃的研制 | 第25-26页 |
2.7 选题角度的确立 | 第26页 |
参考文献 | 第26-28页 |
第三章 实验 | 第28-35页 |
3.1 实验设备 | 第28-29页 |
3.2 原料 | 第29页 |
3.3 实验准备过程 | 第29-30页 |
3.4 试样制备过程 | 第30-31页 |
3.5 测试方法 | 第31-35页 |
3.5.1 薄膜成分的测试 | 第31页 |
3.5.2 薄膜结构的测试 | 第31-33页 |
3.5.3 薄膜的厚度 | 第33页 |
3.5.4 薄膜光透射、反射率的测定 | 第33-34页 |
3.5.5 薄膜光致发光的测定 | 第34-35页 |
第四章 纳米硅系复合薄膜的微结构与发光性能的研究 | 第35-56页 |
4.1 引言 | 第35页 |
4.2 纳米复合薄膜微结构的分析 | 第35-39页 |
4.3 纳米复合薄膜的光致发光性能 | 第39-41页 |
4.3.1 退火温度系列 | 第40页 |
4.3.2 退火时间系列 | 第40页 |
4.3.3 发光机理的分析 | 第40-41页 |
4.4 小结 | 第41-42页 |
参考文献 | 第42-56页 |
第五章 无光污染(减反射)镀膜薄膜的开发研究 | 第56-91页 |
5.1 无光污染镀膜玻璃的理论研究与计算 | 第56-60页 |
5.1.1 玻璃镀层的微结构改性 | 第56-57页 |
5.1.2 玻璃镀层的梯度化 | 第57-60页 |
5.2 实验手段的选择 | 第60-61页 |
5.3 实验结果的分析与讨论 | 第61-76页 |
5.3.1 退火处理与复合薄膜界面、组成、形貌与结构的关系 | 第61-67页 |
5.3.1.1 退火处理与复合薄膜界面的关系 | 第61-63页 |
5.3.1.2 退火处理与复合薄膜组成的关系 | 第63-65页 |
5.3.1.3 退火处理与复合薄膜表面形貌及内部结构的关系 | 第65-67页 |
5.3.2 退火处理中氧化过程的机理分析 | 第67-69页 |
5.3.3 火处理与镀膜玻璃的光学性能 | 第69-74页 |
5.3.3.1 退火温度对于复合薄膜光学性能的影响 | 第70-73页 |
5.3.3.2 退火时间对于复合薄膜光学性能的影响 | 第73-74页 |
5.3.3.3 退火气氛对于复合薄膜光学性能的影响 | 第74页 |
5.3.4 退火处理与复合薄膜的化学稳定性 | 第74-76页 |
5.3.4.1 退火处理对于复合薄膜耐碱性的影响 | 第75-76页 |
5.4 小结 | 第76-77页 |
参考文献 | 第77-91页 |
第六章 结论 | 第91-93页 |
攻读硕士期间发表的论文 | 第93-94页 |
致谢 | 第94页 |