中文摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-12页 |
第1章 绪论 | 第12-22页 |
·引言 | 第12页 |
·半导体光催化技术 | 第12-13页 |
·TiO_2光催化材料 | 第13-15页 |
·TiO_2的结构 | 第13-14页 |
·TiO_2光催化原理 | 第14-15页 |
·TiO_2催化剂应用的局限 | 第15页 |
·TiO_2光催化纳米薄膜材料 | 第15-17页 |
·液相沉积法 | 第16页 |
·溶胶凝胶法 | 第16页 |
·气相沉积法 | 第16-17页 |
·水热法 | 第17页 |
·溅射法 | 第17页 |
·TiO_2纳米薄膜的改性 | 第17-20页 |
·半导体复合 | 第18页 |
·金属沉积 | 第18-19页 |
·非金属掺杂 | 第19页 |
·染料光敏化 | 第19-20页 |
·本文主要研究内容和意义 | 第20-22页 |
·论文的研究意义 | 第20页 |
·本论文研究内容 | 第20-22页 |
第2章 实验材料及方法 | 第22-32页 |
·实验试剂及仪器 | 第22-23页 |
·实验原料与试剂 | 第22页 |
·实验仪器与设备 | 第22-23页 |
·TiO_2纳米棒阵列薄膜表征 | 第23-27页 |
·X 射线衍射 | 第23-24页 |
·拉曼光谱 | 第24-25页 |
·X 射线光电子能谱 | 第25页 |
·傅立叶红外光谱 | 第25-26页 |
·紫外可见漫反射 | 第26页 |
·扫描电子显微镜 | 第26-27页 |
·透射电子显微镜 | 第27页 |
·TiO_2光催化性能评估 | 第27-32页 |
·TiO_2光催化降解染料性能 | 第27-30页 |
·TiO_2光电化学性能 | 第30-32页 |
第3章 TiO_2纳米棒阵列薄膜的制备和表征 | 第32-48页 |
·TiO_2纳米棒阵列薄膜的制备 | 第32页 |
·反应条件对 TiO_2纳米棒阵列薄膜的影响 | 第32-38页 |
·不同浓度前驱体对 TiO_2纳米棒阵列薄膜的影响 | 第32-35页 |
·不同反应时间对 TiO_2纳米棒阵列薄膜的影响 | 第35-38页 |
·TiO_2纳米棒阵列薄膜表征分析 | 第38-43页 |
·拉曼光谱 | 第38-39页 |
·FT-IR 谱图 | 第39-40页 |
·X 射线光电子能谱分析 | 第40-42页 |
·紫外-可见漫反射 | 第42页 |
·透射电子显微镜 | 第42-43页 |
·TiO_2纳米棒阵列薄膜光催化应用 | 第43-46页 |
·光催化性能研究 | 第43-46页 |
·重复性测试 | 第46页 |
·本章小结 | 第46-48页 |
第4章 Fe_2O_3/TiO_2纳米棒阵列薄膜的制备和表征 | 第48-65页 |
·Fe_2O_3/TiO_2纳米棒阵列薄膜的制备 | 第48-49页 |
·Fe_2O_3/TiO_2纳米棒阵列薄膜的表征 | 第49-57页 |
·X 射线衍射 | 第49-50页 |
·扫描电子显微镜 | 第50-52页 |
·拉曼 | 第52-53页 |
·X 射线光电子能谱分析 | 第53-56页 |
·紫外可见漫反射 | 第56页 |
·透射电镜 | 第56-57页 |
·Fe_2O_3/TiO_2纳米棒阵列薄膜光催化应用 | 第57-63页 |
·光催化降解染料性能研究 | 第57-58页 |
·重复性测试 | 第58-59页 |
·光电化学性能研究 | 第59-62页 |
·Fe_2O_3/TiO_2纳米棒薄膜光催化机理 | 第62-63页 |
·本章小结 | 第63-65页 |
第5章 Ag/ TiO_2纳米棒阵列薄膜的制备和表征 | 第65-74页 |
·Ag/ TiO_2纳米棒阵列薄膜的制备 | 第65页 |
·Ag/ TiO_2纳米棒阵列薄膜的表征 | 第65-69页 |
·紫外可见漫反射 | 第65-66页 |
·X 射线光电子能谱分析 | 第66-67页 |
·拉曼 | 第67-68页 |
·透射电镜 | 第68-69页 |
·Ag/ TiO_2纳米棒阵列薄膜光催化应用 | 第69-73页 |
·光催化降解染料性能研究 | 第69页 |
·重复性测试 | 第69-70页 |
·光电化学性能研究 | 第70-73页 |
·本章小结 | 第73-74页 |
结论 | 第74-75页 |
参考文献 | 第75-85页 |
致谢 | 第85-86页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第86页 |