| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·ZnO基本性质 | 第11-16页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第11-14页 |
| ·ZnO的光学性质 | 第14-15页 |
| ·ZnO的电学性质 | 第15-16页 |
| ·ZnO薄膜的其他性质 | 第16页 |
| ·ZnO晶体中的本征点缺陷及相互作用 | 第16-17页 |
| ·ZnO的应用 | 第17-19页 |
| ·气敏传感器 | 第17页 |
| ·透明导电膜 | 第17页 |
| ·紫外探测器 | 第17-18页 |
| ·发光器件 | 第18页 |
| ·薄膜晶体管 | 第18-19页 |
| ·选题依据及主要研究内容 | 第19-20页 |
| 第二章 ZnO：Cu薄膜制备方法及测试方法 | 第20-30页 |
| ·Cu掺杂ZnO薄膜的制备 | 第20-24页 |
| ·射频磁控溅射法 | 第20-21页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第21页 |
| ·喷雾热分解法 | 第21-22页 |
| ·电子束蒸发法 | 第22页 |
| ·金属有机物化学气相沉积 | 第22页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第22-24页 |
| ·样品的表征与分析 | 第24-30页 |
| ·X射线衍射技术原理 | 第24-27页 |
| ·表面形貌分析 | 第27-28页 |
| ·紫外-可见光透射谱分析 | 第28页 |
| ·薄膜的光致发光 | 第28-30页 |
| 第三章 样品的制备 | 第30-38页 |
| ·实验所需化学试剂及仪器设备 | 第30-31页 |
| ·实验所需化学试剂 | 第30页 |
| ·仪器列表 | 第30-31页 |
| ·实验方案设置 | 第31-34页 |
| ·实验工艺流程图 | 第34-35页 |
| ·溶胶的制备 | 第35-38页 |
| ·溶胶-凝胶法制备ZnO薄膜的化学反应原理 | 第35-36页 |
| ·溶胶法成膜途径 | 第36-37页 |
| ·溶胶的制备 | 第37页 |
| ·基片的处理 | 第37页 |
| ·薄膜干燥及退火处理 | 第37-38页 |
| 第四章 实验结果与分析 | 第38-64页 |
| ·掺杂离子浓度对ZnO：Cu-Al薄膜的影响 | 第38-56页 |
| ·Cu离子掺杂浓度对ZnO：Cu-Al薄膜的影响 | 第38-44页 |
| ·Al离子掺杂浓度对ZnO：Cu-Al薄膜的影响 | 第44-51页 |
| ·Cu离子和Al离子总掺杂浓度对ZnO：Cu-Al薄膜的影响 | 第51-56页 |
| ·不同退火温度对ZnO：Cu-Al薄膜的影响 | 第56-61页 |
| ·不同热处理温度对ZnO：Cu-Al薄膜晶体结构分析 | 第56-57页 |
| ·不同热处理温度对ZnO：Cu-Al薄膜表面形貌分析 | 第57-58页 |
| ·不同热处理温度对ZnO：Cu-Al薄膜透射光谱分析 | 第58-59页 |
| ·不同热处理温度对ZnO：Cu-Al薄膜发致发光谱 | 第59-61页 |
| ·不同溶胶浓度对ZnO：Cu-Al薄膜结构及发光性能的影响 | 第61-64页 |
| ·不同溶胶浓度下ZnO：Cu-Al薄膜晶体结构分析 | 第61-62页 |
| ·不同溶胶浓度对ZnO：Cu-Al薄膜发光性能分析 | 第62-64页 |
| 第五章 结论与展望 | 第64-67页 |
| ·主要结论 | 第64-65页 |
| ·本文创新点及进一步工作展望 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-74页 |
| 附录 (攻读学位期间发表论文目录) | 第74-76页 |
