类金刚石薄膜的制备及其在太赫兹频段光学性质的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第1章 类金刚石薄膜概述 | 第10-21页 |
| ·碳材料简介 | 第10-11页 |
| ·类金刚石薄膜的研究背景 | 第11-16页 |
| ·DLC薄膜的结构 | 第13-14页 |
| ·DLC薄膜的性质 | 第14-15页 |
| ·DLC薄膜的制备 | 第15页 |
| ·DLC薄膜的运用 | 第15-16页 |
| ·本文的研究内容和意义 | 第16-18页 |
| ·本论文的内容和思路 | 第16-17页 |
| ·本论文的意义 | 第17-18页 |
| 参考文献 | 第18-21页 |
| 第2章 类金刚石薄膜的制备与表征 | 第21-45页 |
| ·基底的洗涤方法 | 第21-22页 |
| ·玻璃基片的清洗方法 | 第21-22页 |
| ·硅基片的清洗方法 | 第22页 |
| ·制备仪器的介绍 | 第22-27页 |
| ·离子束溅射 | 第23-25页 |
| ·磁控溅射 | 第25-27页 |
| ·表征方法简介 | 第27-36页 |
| ·厚度的测量 | 第27-31页 |
| ·电阻率的测量 | 第31-33页 |
| ·拉曼光谱的测量 | 第33-35页 |
| ·太赫兹透射谱的测量 | 第35-36页 |
| ·太赫兹光学参数的计算 | 第36-43页 |
| ·无基底样品的太赫兹光学参数的计算 | 第36-40页 |
| ·有基底样品的太赫兹光学参数的计算 | 第40-43页 |
| 参考文献 | 第43-45页 |
| 第3章 类金刚石薄膜的拉曼光谱研究 | 第45-67页 |
| ·DLC薄膜的拉曼光谱分析方法 | 第45-48页 |
| ·离子束溅射制备DLC薄膜的拉曼光谱研究 | 第48-55页 |
| ·主源离子能量对DLC薄膜影响的研究 | 第48-50页 |
| ·主源离子束流对DLC薄膜影响的研究 | 第50-51页 |
| ·辅源离子能量对DLC薄膜影响的研究 | 第51-52页 |
| ·辅源离子束流对DLC薄膜影响的研究 | 第52-53页 |
| ·气压对DLC薄膜影响的研究 | 第53-55页 |
| ·磁控溅射制备DLC薄膜的拉曼光谱研究 | 第55-63页 |
| ·气压对DLC薄膜影响的研究 | 第55-59页 |
| ·功率对DLC薄膜影响的研究 | 第59-61页 |
| ·厚度对DLC薄膜影响的研究 | 第61-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-67页 |
| 第4章 类金刚石薄膜的太赫兹透射光谱研究 | 第67-90页 |
| ·硅基底在THz频段的光学参数 | 第68-71页 |
| ·工艺参数对DLC薄膜的THz透射谱影响的研究 | 第71-85页 |
| ·气压对DLC薄膜的THz透射谱的影响 | 第71-78页 |
| ·功率对DLC薄膜的THz透射谱的影响 | 第78-82页 |
| ·厚度对DLC薄膜的THz透射谱的影响 | 第82-85页 |
| ·本章小结 | 第85-87页 |
| 参考文献 | 第87-90页 |
| 第5章 总结与展望 | 第90-93页 |
| ·工作总结 | 第90页 |
| ·本论文的主要研究结果 | 第90-92页 |
| ·展望 | 第92-93页 |
| 硕士期间所发表的论文 | 第93-94页 |
| 致谢 | 第94页 |
