| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-24页 |
| ·前言 | 第9-10页 |
| ·四氯化硅的综合利用 | 第10-12页 |
| ·氢化还原为三氯氢硅 | 第10页 |
| ·生成气相法白炭黑 | 第10-11页 |
| ·生成硅酸酯 | 第11页 |
| ·生成光纤级四氯化硅 | 第11-12页 |
| ·纳米二氧化硅的一般制备方法 | 第12-14页 |
| ·气相法 | 第12页 |
| ·沉淀法 | 第12-13页 |
| ·醇水溶液水解法 | 第13页 |
| ·超重力沉淀法 | 第13-14页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第14页 |
| ·反相胶束微乳液法 | 第14页 |
| ·纳米二氧化硅的应用 | 第14-15页 |
| ·多形貌纳米二氧化硅的合成 | 第15-19页 |
| ·纳米二氧化硅的疏水改性 | 第19-22页 |
| ·改性剂 | 第20页 |
| ·改性方法 | 第20-22页 |
| ·改性纳米二氧化硅的应用 | 第22页 |
| ·本课题研究的主要内容与创新点 | 第22-24页 |
| 第2章 醇水混合溶剂中 SiCl_4水解制备纳米二氧化硅 | 第24-37页 |
| ·实验部分 | 第24-25页 |
| ·实验原理 | 第24页 |
| ·实验原料 | 第24页 |
| ·实验步骤 | 第24-25页 |
| ·制备工艺条件对产物性能的影响 | 第25-29页 |
| ·pH 值的影响 | 第25-26页 |
| ·温度的影响 | 第26-27页 |
| ·醇水摩尔比的影响 | 第27页 |
| ·SiCl_4 浓度及加入速度的影响 | 第27-29页 |
| ·搅拌速度的影响 | 第29页 |
| ·产物的表征及其分析 | 第29-36页 |
| ·X-射线粉末衍射（XRD）分析 | 第30-31页 |
| ·傅立叶变换红外光谱（FT-IR）分析 | 第31-33页 |
| ·透射电镜（TEM）分析 | 第33-34页 |
| ·扫描电镜（SEM）分析 | 第34-35页 |
| ·（BET）比表面积测试 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第3章 特殊形貌二氧化硅的制备及表征 | 第37-52页 |
| ·棒状和中空管状纳米二氧化硅的制备及其表征 | 第37-41页 |
| ·实验部分 | 第37-38页 |
| ·结果与讨论 | 第38-41页 |
| ·针状纳米二氧化硅的制备及其表征 | 第41-44页 |
| ·实验部分 | 第41-42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-44页 |
| ·微米级空心管状二氧化硅的制备及其表征 | 第44-49页 |
| ·实验部分 | 第44页 |
| ·结果与讨论 | 第44-49页 |
| ·多形貌纳米二氧化硅生成机理的探讨 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第4章 疏水纳米二氧化硅的制备及表征 | 第52-61页 |
| ·实验部分 | 第52-53页 |
| ·实验原料 | 第52页 |
| ·实验步骤 | 第52页 |
| ·产物的测试与表征 | 第52-53页 |
| ·结果与讨论 | 第53-60页 |
| ·产物的X-射线衍射（XRD）分析 | 第53-54页 |
| ·产物的傅立叶红外（FT-IR）分析 | 第54-55页 |
| ·产物的疏水性效果测试 | 第55-56页 |
| ·表面羟基数定性化学测定分析 | 第56-59页 |
| ·产物的氮气吸附（BET）分析 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第5章 结论与展望 | 第61-63页 |
| ·结论 | 第61-62页 |
| ·展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 缩略语词汇表 | 第69-70页 |
| 附录A 所用主要试剂的名称、等级和生产厂家 | 第70-71页 |
| 附录B 所用主要仪器及生产厂家 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第73页 |