微纳光栅的制备及特性研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-30页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·微光学元件的最新进展 | 第11-23页 |
| ·微透镜阵列 | 第11-13页 |
| ·微镜 | 第13-17页 |
| ·光开关 | 第17-18页 |
| ·光栅 | 第18-23页 |
| ·光栅制备方法 | 第23-29页 |
| ·传统微细加工 | 第23-25页 |
| ·全息光刻 | 第25-26页 |
| ·利用菲涅尔衍射 | 第26-27页 |
| ·倏逝波光刻 | 第27-28页 |
| ·飞秒激光制备纳米级结构 | 第28-29页 |
| ·本课题研究内容及本文结构 | 第29-30页 |
| 第二章 亚波长结构理论分析 | 第30-41页 |
| ·亚波长结构简介 | 第30页 |
| ·麦克斯韦方程 | 第30-32页 |
| ·严格耦合波法（RCWA）分析一维周期结构光栅 | 第32-35页 |
| ·等效介质理论（EMT） | 第35-40页 |
| ·一阶等效介质理论 | 第35-37页 |
| ·二阶等效介质理论 | 第37-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第三章 RSOFT 设计仿真 | 第41-45页 |
| ·RSoft 理论背景 | 第41页 |
| ·亚波长光栅反射率模拟 | 第41-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 亚波长光栅的制备 | 第45-58页 |
| ·高深宽比纳米光栅 | 第46-53页 |
| ·X 射线光刻简介 | 第46-47页 |
| ·工艺过程 | 第47-49页 |
| ·创新点 | 第49-50页 |
| ·掩膜板与样品间间距对分辨率的影响 | 第50-51页 |
| ·实验结果分析 | 第51-53页 |
| ·硅亚微米光栅 | 第53-57页 |
| ·电子束光刻简介 | 第53-54页 |
| ·快速原子束刻蚀（FAB） | 第54-55页 |
| ·工艺过程 | 第55-56页 |
| ·结果分析 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 基于硅微米模具的压印技术研究 | 第58-83页 |
| ·微米光栅模具 | 第58-61页 |
| ·深反应离子刻蚀（DRIE） | 第58-59页 |
| ·工艺过程 | 第59-60页 |
| ·尺寸 | 第60-61页 |
| ·硅微结构在聚二甲基硅氧烷（PDMS）上转写 | 第61-70页 |
| ·PDMS | 第61-63页 |
| ·转写步骤 | 第63页 |
| ·结果 | 第63-64页 |
| ·简易周期可变光栅 | 第64-70页 |
| ·硅光栅结构在左旋聚乳酸（PLLA）材料的转写 | 第70-74页 |
| ·PLLA | 第70-72页 |
| ·转写步骤 | 第72-74页 |
| ·硅光栅结构在聚苯乙烯（PS）材料上的转写 | 第74-82页 |
| ·PS | 第74-77页 |
| ·转写步骤 | 第77-78页 |
| ·结果及难点解决 | 第78-82页 |
| ·本章小结 | 第82-83页 |
| 第六章 曲面二维微米光栅光刻基础研究 | 第83-88页 |
| ·研究背景 | 第83-84页 |
| ·实验过程 | 第84-85页 |
| ·实验结果及待解决问题 | 第85-87页 |
| ·本章小结 | 第87-88页 |
| 第七章 总结与展望 | 第88-90页 |
| 参考文献 | 第90-97页 |
| 致谢 | 第97-98页 |
| 攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第98页 |
