| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-14页 |
| ·研究进展与意义 | 第8-12页 |
| ·研究方法与内容 | 第12-13页 |
| ·本章小结 | 第13-14页 |
| 2 非线性研究方法 | 第14-24页 |
| ·Z 扫描的原理与光路 | 第14-16页 |
| ·Z 扫描的数学分析与拟合 | 第16-22页 |
| ·材料的非线性品质因子 | 第22-23页 |
| ·本章小结 | 第23-24页 |
| 3 银纳米阵列的制备与表征 | 第24-32页 |
| ·掩膜板的制备方法 | 第24-26页 |
| ·脉冲激光沉积法镀膜原理 | 第26-28页 |
| ·周期结构的表征与形貌特点 | 第28-30页 |
| ·紫外-可见光谱仪的测试 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 4 银纳米阵列的光学与非线性光学性质研究 | 第32-49页 |
| ·沉积气压对银纳米阵列性质的影响 | 第32-34页 |
| ·沉积时间对银纳米阵列性质的影响 | 第34-38页 |
| ·退火与沉积时间对银纳米阵列性质的影响 | 第38-43页 |
| ·退火对金-银纳米阵列性质的影响 | 第43-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 5 总结和展望 | 第49-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |