| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 第1章 研究背景及基本概念 | 第12-42页 |
| ·半导体门型量子点概述 | 第12页 |
| ·二维电子气 | 第12-14页 |
| ·两种门型量子点 | 第14-17页 |
| ·量子点系统基本概念 | 第17-25页 |
| ·量子点充放电模型 | 第17页 |
| ·常相互作用模型(CI模型) | 第17-18页 |
| ·电化学势 | 第18页 |
| ·充电能和库伦阻塞 | 第18-21页 |
| ·库仑菱形 | 第21-24页 |
| ·共隧穿(Cotunneling)过程 | 第24-25页 |
| ·双量子点系统 | 第25-37页 |
| ·常相互作用下的经典理论模型 | 第26-34页 |
| ·量子态下的理论模型 | 第34-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-42页 |
| 第2章 样品制备与粗测 | 第42-64页 |
| ·样品加工仪器 | 第42-48页 |
| ·紫外光学曝光机 | 第42-44页 |
| ·电子束曝光机 | 第44-45页 |
| ·电子束蒸发镀膜机 | 第45-46页 |
| ·其他常用仪器和设备 | 第46-48页 |
| ·样品加工流程和工艺 | 第48-56页 |
| ·湿法刻蚀形成样品工作所需区域(Mesa) | 第48-49页 |
| ·制作欧姆电极 | 第49-51页 |
| ·制作样品表面外围大的门电极 | 第51页 |
| ·表面纳米量级门电极的制作 | 第51-56页 |
| ·样品粗测和筛选 | 第56-61页 |
| ·焊接样品 | 第56页 |
| ·室温下粗测 | 第56-58页 |
| ·液氦下粗测 | 第58-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 第3章 耦合可调并联双量子点系统中的电子态 | 第64-74页 |
| ·样品的基本性质和测量方法 | 第64-66页 |
| ·单个量子点性质 | 第66页 |
| ·双量子点耦合蜂窝图 | 第66-68页 |
| ·本章小结 | 第68-72页 |
| 参考文献 | 第72-74页 |
| 第4章 串联双量子点中脉冲作用下的电荷量子比特动力学演化研究 | 第74-84页 |
| ·模型和方法 | 第74-76页 |
| ·操作与测量过程 | 第76-78页 |
| ·不同脉冲下的相干动力学演化 | 第78-80页 |
| ·本章小结 | 第80-82页 |
| 参考文献 | 第82-84页 |
| 第5章 双量子系统点中电荷量子比特的LZS谱演化研究 | 第84-108页 |
| ·测量系统 | 第84-86页 |
| ·样品基本性质和测量方法 | 第86-89页 |
| ·样品性质 | 第87页 |
| ·测量方法 | 第87-89页 |
| ·系统电子温度 | 第89-90页 |
| ·脉冲操作下电荷量子比特的拉比振荡 | 第90-93页 |
| ·Landau-Zener-Stukerlberg(LZS)效应 | 第93-104页 |
| ·物理图像描述 | 第93-96页 |
| ·理论推导 | 第96-98页 |
| ·脉冲宽度与LZS相干条纹演化 | 第98-100页 |
| ·脉冲振幅与LZS相干条纹演化 | 第100-101页 |
| ·消相干时间 | 第101-104页 |
| ·本章小结 | 第104-106页 |
| 参考文献 | 第106-108页 |
| 第6章 总结与展望 | 第108-114页 |
| ·论文总结 | 第108-109页 |
| ·不足与展望 | 第109-112页 |
| 参考文献 | 第112-114页 |
| 致谢 | 第114-116页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第116-117页 |
