化学气相沉积TiN薄膜工艺优化及其性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-24页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·薄膜技术 | 第9-14页 |
| ·薄膜的定义及分类 | 第9-10页 |
| ·薄膜的形成方式 | 第10-12页 |
| ·薄膜中的应力及薄膜的择优取向 | 第12-13页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第13-14页 |
| ·化学气相沉积技术 | 第14-19页 |
| ·气相沉积技术简介 | 第14-15页 |
| ·化学气相沉积 | 第15-18页 |
| ·CVD 技术在切削工具方面的应用 | 第18-19页 |
| ·CVD 技术的发展与前景展望 | 第19页 |
| ·TiN 薄膜的结构性能及应用 | 第19-22页 |
| ·TiN 薄膜的晶体结构 | 第19-21页 |
| ·TiN 薄膜的性能及应用 | 第21-22页 |
| ·本课题提出、研究意义及内容 | 第22-24页 |
| ·目的及意义 | 第22-23页 |
| ·本课题主要研究内容 | 第23-24页 |
| 2 实验原理及方法 | 第24-31页 |
| ·技术路线 | 第24页 |
| ·试验装置 | 第24-25页 |
| ·实验材料 | 第25-26页 |
| ·TiN 制备工艺参数与流程 | 第26页 |
| ·微观分析 | 第26-28页 |
| ·XRD 物相检测 | 第26-27页 |
| ·表面、断口形貌观察及元素分布检测 | 第27-28页 |
| ·主要性能检测 | 第28-30页 |
| ·结合力的测定 | 第28-29页 |
| ·显微硬度测试 | 第29页 |
| ·抗弯强度测试 | 第29-30页 |
| ·沉积速率分析 | 第30-31页 |
| 3 氮化钛涂层制备工艺参数优化 | 第31-34页 |
| ·原有工艺参数制备出的 TiN 涂层存在的问题 | 第31-33页 |
| ·沉积 TiN 涂层的工艺参数 | 第31页 |
| ·化学气相沉积 TiN 涂层分析 | 第31-33页 |
| ·CVD 法制备 TiN 涂层的工艺优化 | 第33-34页 |
| 4 试验结果及讨论 | 第34-71页 |
| ·TiN 涂层物相、成分及微观结构分析 | 第34-54页 |
| ·TiN 涂层物相及 XRD 图谱分析 | 第34-35页 |
| ·TiN 涂层能谱及能谱线扫描分析 | 第35-41页 |
| ·TiN 涂层微观结构、断口形貌分析 | 第41-49页 |
| ·沉积速率分析 | 第49-54页 |
| ·TiN 涂层性能及结果分析 | 第54-65页 |
| ·TiN 涂层与基体结合力分析 | 第54-61页 |
| ·TiN 涂层显微硬度分析 | 第61-63页 |
| ·抗弯强度分析 | 第63-65页 |
| ·最优工艺验证 | 第65-71页 |
| ·最优工艺下 TiN 涂层制备的工艺稳定性 | 第65-68页 |
| ·最优工艺下 TiN 涂层刀具的切削性能 | 第68-71页 |
| 结论 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-75页 |
| 攻读硕士学位论文期间发表的论文集科研成果 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
