| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-10页 |
| ·高功率半导体激光器的发展 | 第7-8页 |
| ·高功率半导体激光器腔面膜技术的发展及现状 | 第8-9页 |
| ·本论文研究的目的及内容 | 第9-10页 |
| 第二章 半导体激光器基础 | 第10-23页 |
| ·半导体激光器的物理基础 | 第10-15页 |
| ·半导体激光器的工作原理 | 第15-17页 |
| ·半导体激光器的基本结构 | 第17-23页 |
| 第三章 高功率半导体激光器腔面膜设计 | 第23-32页 |
| ·腔面膜反射率设计 | 第23-24页 |
| ·增透膜 | 第24-27页 |
| ·高反膜 | 第27-32页 |
| 第四章 磁控溅射法制备半导体激光器腔面膜 | 第32-40页 |
| ·磁控溅射设备 | 第32-33页 |
| ·半导体激光器腔面膜的制备 | 第33-40页 |
| 第五章 腔面膜的测试及分析 | 第40-45页 |
| ·膜层附着力和致密性测试及分析 | 第40页 |
| ·薄膜的反射率 | 第40-42页 |
| ·在半导体激光器上的应用 | 第42-45页 |
| 总结 | 第45-46页 |
| 致谢 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-48页 |