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半导体光放大器的MOCVD外延生长工艺研究

摘要第1-5页
Abstract第5-8页
1 绪论第8-17页
   ·半导体光放大器的发展概况及其应用第8-11页
   ·偏振不相关量子阱SOA 的研究方案第11-12页
   ·量子点SOA 的特点第12-15页
   ·本论文的主要内容第15-16页
   ·本论文的篇章结构第16-17页
2 MOCVD 材料外延生长与测试技术第17-33页
   ·MOCVD 技术简介第17-23页
   ·外延材料的测试技术第23-32页
   ·本章小结第32-33页
3 应变在半导体光放大器中的应用第33-39页
   ·量子阱、超晶格中应变的引入第33-34页
   ·应变对能带结构的影响第34-35页
   ·混合应变量子阱半导体光放大器第35-36页
   ·应变量子阱半导体光放大器的设计方案第36-38页
   ·本章小结第38-39页
4 应变量子阱半导体光放大器的生长与测试第39-52页
   ·体材料的生长测试与分析第39-45页
   ·量子阱的生长测试与分析第45-51页
   ·本章小结第51-52页
5 量子点外延生长工艺的理论研究与生长测试第52-62页
   ·自组织量子点第52-58页
   ·InAs/GaAs 量子点材料的MOVCD 生长与测试第58-61页
   ·本章小结第61-62页
6 主要结论第62-63页
致谢第63-64页
参考文献第64-71页
附录 攻读硕士学位期间发表论文第71页

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