微波ECR等离子体增强溅射制备类金刚石薄膜及沉积过程的等离子体在线诊断
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·类金刚石的结构 | 第9-10页 |
| ·类金刚石的分类 | 第10-11页 |
| ·类金刚石的性能 | 第11页 |
| ·类金刚石薄膜的制备 | 第11-12页 |
| ·类金刚石薄膜的应用 | 第12-13页 |
| ·类金刚石薄膜的问题 | 第13-14页 |
| ·类金刚石薄膜的研究进展 | 第14-16页 |
| ·对沉积环境的等离子体诊断 | 第16页 |
| ·本文的研究内容和目的 | 第16-18页 |
| 第二章 静电探针原理 | 第18-29页 |
| ·介绍 | 第18-19页 |
| ·探针发展史 | 第18页 |
| ·探针技术的特点和发展方向 | 第18-19页 |
| ·朗缪尔单探针诊断原理 | 第19-22页 |
| ·探针原理分析 | 第20-21页 |
| ·等离子体参数计算 | 第21-22页 |
| ·朗缪尔双探针诊断原理 | 第22-24页 |
| ·悬浮谐波探针诊断原理 | 第24-27页 |
| ·悬浮型探针的实验原理 | 第25-26页 |
| ·悬浮谐波探针的结构 | 第26-27页 |
| ·基于虚拟仪器的朗缪尔探针诊断方法 | 第27-29页 |
| 第三章 实验设备与表征方法 | 第29-35页 |
| ·实验设备 | 第29-33页 |
| ·MW-ECR等离子体增强非平衡磁控溅射装置 | 第29-31页 |
| ·本文所使用的DLC薄膜制备装置 | 第31-32页 |
| ·悬浮谐波探针诊断装置 | 第32-33页 |
| ·薄膜测试及表征方法 | 第33-35页 |
| ·拉曼光谱仪 | 第33-34页 |
| ·膜厚测量仪 | 第34-35页 |
| 第四章 悬浮谐波探针装置参数优化与实验验证 | 第35-45页 |
| ·探针偏置信号幅度对悬浮谐波探针诊断结果的影响 | 第35-39页 |
| ·悬浮谐波探针与朗缪尔单探针诊断结果的比较 | 第39-42页 |
| ·实际工艺过程中的悬浮谐波探针诊断 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第五章 类金刚石制备 | 第45-56页 |
| ·类金刚石薄膜随沉积气压变化关系 | 第46-49页 |
| ·薄膜制备过程中等离子体参数 | 第46-48页 |
| ·薄膜性质与沉积气压的变化关系研究 | 第48-49页 |
| ·类金刚石薄膜随靶上直流偏压的变化关系 | 第49-55页 |
| ·等离子体参数随靶偏压的变化关系研究 | 第49-51页 |
| ·薄膜生长速度随靶偏压变化关系研究 | 第51-52页 |
| ·薄膜性质随靶偏压变化关系研究 | 第52-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
