| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-10页 |
| 第一章 前言 | 第10-42页 |
| ·聚合物光子学材料 | 第10-15页 |
| ·聚合物发光材料 | 第10-11页 |
| ·光敏聚合物材料 | 第11-12页 |
| ·聚合物非线性光学材料 | 第12-15页 |
| ·聚合物光子学器件 | 第15-33页 |
| ·聚合物光子学器件的研究背景和现状 | 第15-18页 |
| ·聚合物光子学器件的构筑方法 | 第18-33页 |
| ·论文选题的目的、意义、研究内容及构成 | 第33-34页 |
| ·参考文献 | 第34-42页 |
| 第二章 激光染料掺杂聚合物材料的制备 | 第42-50页 |
| ·引言 | 第42-43页 |
| ·荧光素染料的化学改性与表征 | 第43-44页 |
| ·荧光素染料的化学改性 | 第43-44页 |
| ·改性荧光素染料的光学性质 | 第44页 |
| ·荧光素掺杂聚合物膜的制备与表征 | 第44-46页 |
| ·荧光素掺杂聚合物膜的制备 | 第44-45页 |
| ·荧光素掺杂聚合物膜的表征 | 第45-46页 |
| ·罗丹明B掺杂聚合物膜的制备与表征 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| ·参考文献 | 第48-50页 |
| 第三章 激光染料掺杂聚合物材料构筑光学谐振腔的研究 | 第50-61页 |
| ·引言 | 第50-51页 |
| ·二氧化硅单分散微球的制备与表征 | 第51-53页 |
| ·二氧化硅单分散微球的制备 | 第51-52页 |
| ·二氧化硅单分散微球的表征 | 第52-53页 |
| ·自组装二氧化硅光子晶体及其表征 | 第53-56页 |
| ·垂直沉降法自组装二氧化硅光子晶体 | 第54-55页 |
| ·二氧化硅光子晶体的表征 | 第55-56页 |
| ·激光染料掺杂聚合物/光子晶体光学谐振腔的构筑 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| ·参考文献 | 第59-61页 |
| 第四章 光学谐振腔中激光染料掺杂聚合物材料的发光特性 | 第61-76页 |
| ·引言 | 第61-62页 |
| ·光学测试系统 | 第62页 |
| ·荧光素掺杂聚合物体系在光学谐振腔中的激射研究 | 第62-66页 |
| ·激射现象研究 | 第62-65页 |
| ·光学谐振腔中荧光素掺杂聚合物膜发生激射的机制 | 第65页 |
| ·二氧化硅光子晶体的超棱镜效应 | 第65-66页 |
| ·罗丹明B掺杂聚合物体系在光学谐振腔中的放大自发辐射研究 | 第66-71页 |
| ·谐振腔中罗丹明B掺杂聚合物体系发光特性的表征 | 第66-67页 |
| ·谐振腔中罗丹明B掺杂聚合物体系的放大自发辐射现象 | 第67-70页 |
| ·谐振腔中罗丹明B掺杂聚合物体系发生放大自发辐射的机制 | 第70-71页 |
| ·本章小结 | 第71-73页 |
| ·参考文献 | 第73-76页 |
| 第五章 微纳聚合物结构的双光子加工与结构表征 | 第76-98页 |
| ·引言 | 第76-77页 |
| ·双光子聚合三维微加工 | 第77-80页 |
| ·加工原理 | 第77-78页 |
| ·光学系统 | 第78-79页 |
| ·双光子加工所使用的材料 | 第79-80页 |
| ·双光子加工聚合物悬空线的分辨率研究 | 第80-86页 |
| ·激光功率对聚合物悬空线的影响 | 第81-83页 |
| ·曝光时间对聚合物悬空线的影响 | 第83-85页 |
| ·聚合物悬空线尺寸和形貌的控制机制 | 第85-86页 |
| ·聚合物包埋结构双光子微纳加工 | 第86-93页 |
| ·聚合物包埋结构的形成原理 | 第86-88页 |
| ·聚合物包埋结构的加工及表征 | 第88-91页 |
| ·加工条件对聚合物包埋结构的影响 | 第91-93页 |
| ·本章结论 | 第93-95页 |
| ·参考文献 | 第95-98页 |
| 第六章 结论 | 第98-101页 |
| 已发表及待发表的文章 | 第101-102页 |
| 会议论文 | 第102-103页 |
| 致谢 | 第103-104页 |
