| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-20页 |
| ·超导材料的研究发展 | 第9-13页 |
| ·Y系和Bi系高温超导体的研究 | 第13-16页 |
| ·超导材料的应用 | 第16-18页 |
| ·Si基片上制备超导薄膜材料的现状 | 第18页 |
| ·本文的研究思路和主要内容 | 第18-20页 |
| 第二章 薄膜的制备方法和分析方法 | 第20-31页 |
| ·薄膜的基本知识和制备技术 | 第20-21页 |
| ·脉冲激光沉积法的原理 | 第21-25页 |
| ·X射线衍射仪的分析原理 | 第25-29页 |
| ·其他的分析仪器 | 第29-31页 |
| 第三章 Si基片上外延生长YSZ薄膜的研究 | 第31-51页 |
| ·YSZ过渡层的研究背景 | 第31-33页 |
| ·实验方法 | 第33-39页 |
| ·实验结果及分析 | 第39-48页 |
| ·YSZ薄膜的生长模式 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 Si基片上外延生长Bi2212/YSZ薄膜的研究 | 第51-68页 |
| ·Bi2212薄膜研究背景 | 第51-52页 |
| ·实验方法 | 第52-56页 |
| ·BSCCO2212的分析 | 第56-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 第五章 总结与展望 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-74页 |
| 攻读硕士学位期间公开发表的论文 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 详细摘要 | 第76-78页 |