摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-11页 |
第一章 绪论 | 第11-38页 |
§1-1 超疏水表面现象 | 第11-12页 |
§1-2 超疏水理论 | 第12-17页 |
§1-2-1 静态接触角 | 第12-13页 |
§1-2-2 Wenzel理论 | 第13-14页 |
§1-2-3 Cassie理论 | 第14页 |
§1-2-4 Cassie模式和Wenzel模式的关系 | 第14-16页 |
§1-2-5 接触角滞后 | 第16-17页 |
§1-3 超疏水表面制作技术 | 第17-26页 |
§1-3-1 刻蚀法 | 第18-19页 |
§1-3-2 沉积法 | 第19-22页 |
§1-3-3 模板法 | 第22-23页 |
§1-3-4 溶胶凝胶法 | 第23-24页 |
§1-3-5 相分离法 | 第24页 |
§1-3-6 静电纺丝法 | 第24-25页 |
§1-3-7 纳米颗粒法 | 第25-26页 |
§1-4 超疏水表面技术存在问题发展趋势和应用前景 | 第26-28页 |
§1-4-1 存在的问题 | 第26-27页 |
§1-4-2 发展趋势 | 第27-28页 |
§1-4-3 潜在应用 | 第28页 |
§1-5 本论文的基本思路 | 第28-29页 |
参考文献 | 第29-38页 |
第二章 聚合物超疏水表面制作 | 第38-54页 |
§2-1 引言 | 第38-39页 |
§2-2 实验试剂材料及仪器设备 | 第39-40页 |
§2-2-1 实验试剂与材料 | 第39页 |
§2-2-2 实验仪器 | 第39-40页 |
§2-3 砂纸为模制作聚合物超疏水表面 | 第40-47页 |
§2-3-1 实验方法 | 第40-41页 |
§2-3-2 结果与讨论 | 第41-47页 |
§2-4 纳米粒子填充法制备超疏水涂层 | 第47-51页 |
§2-4-1 实验方法 | 第47页 |
§2-4-2 结果与讨论 | 第47-51页 |
§2-5 本章小结 | 第51-52页 |
参考文献 | 第52-54页 |
第三章 阳极氧化法制作超疏水氧化铝 | 第54-64页 |
§3-1 引言 | 第54-55页 |
§3-2 阳极氧化法制备超疏水氧化铝 | 第55-62页 |
§3-2-1 实验试剂材料与仪器 | 第55页 |
§3-2-2 实验方法 | 第55页 |
§3-2-3 结果与讨论 | 第55-62页 |
§3-3 本章小结 | 第62页 |
参考文献 | 第62-64页 |
第四章 超亲水/超疏水微图案表面制作 | 第64-85页 |
§4-1 引言 | 第64-65页 |
§4-2 实验试剂材料与仪器 | 第65页 |
§4-3 CO_2激光制作超亲水/超疏水微图案表面 | 第65-72页 |
§4-3-1 仪器介绍及原理 | 第65-67页 |
§4-3-2 实验方法 | 第67-68页 |
§4-3-3 结果与讨论 | 第68-72页 |
§4-4 准分子激光烧蚀制作超亲水/超疏水微图案表面 | 第72-79页 |
§4-4-1 仪器介绍及原理 | 第73-75页 |
§4-4-2 实验方法 | 第75-76页 |
§4-4-3 结果与讨论 | 第76-79页 |
§4-5 氧等离子体制作超亲水/超疏水微图案表面 | 第79-82页 |
§4-5-1 仪器介绍及原理 | 第79-80页 |
§4-5-2 实验方法 | 第80页 |
§4-5-3 实验结果与讨论 | 第80-82页 |
§4-6 本章小结 | 第82-83页 |
参考文献 | 第83-85页 |
第五章 超亲水/超疏水微图案表面应用初探 | 第85-90页 |
§5-1 实验试剂材料与仪器 | 第85页 |
§5-2 阵列芯片 | 第85-87页 |
§5-2-1 实验方法 | 第86页 |
§5-2-2 结果和讨论 | 第86-87页 |
§5-3 开放式微流控芯片 | 第87-89页 |
§5-3-1 实验方法 | 第88页 |
§5-3-2 结果和讨论 | 第88-89页 |
§5-4 本章小结 | 第89页 |
参考文献 | 第89-90页 |
作者在攻读硕士期间发表的论文 | 第90-91页 |
致谢 | 第91-92页 |
本文中用到的缩写词列表 | 第92页 |