| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| §1.1 激光自混合干涉技术的研究意义 | 第8-9页 |
| §1.2 激光自混合干涉位相调制技术的发展需求 | 第9-10页 |
| §1.3 微型位相调制自混合干涉仪的研究意义 | 第10页 |
| §1.4 课题来源及本文主要研究内容 | 第10-12页 |
| 第二章 电光晶体位相调制的理论研究 | 第12-28页 |
| §2.1 电光晶体的位相调制 | 第12-15页 |
| §2.2 电光晶体及其位相调制的模拟与分析 | 第15-27页 |
| §2.2.1 铌酸锂晶体在外加电场中折射率变化关系推导 | 第15-18页 |
| §2.2.2 电光晶体与电极的模拟 | 第18-26页 |
| §2.2.2.1 电光晶体的模拟 | 第18-22页 |
| §2.2.2.2 电极的模拟 | 第22-26页 |
| §2.2.3 电光晶体位相调制的模拟 | 第26-27页 |
| §2.3 本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 自混合干涉信号位相调制的方法 | 第28-37页 |
| §3.1 自混合干涉调制信号的原理 | 第28-29页 |
| §3.2 实验装置和实验结果 | 第29-36页 |
| §3.2.1 调制电压与信号的关系 | 第31-32页 |
| §3.2.2 调制频率与信号的关系 | 第32-35页 |
| §3.2.3 不同波形的调制情况 | 第35-36页 |
| §3.3 本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 微型位相调制自混合干涉仪的设计与研制 | 第37-46页 |
| §4.1 微型干涉仪光路的设计与分析 | 第37-41页 |
| §4.1.1 半导体激光器及封装 | 第38-39页 |
| §4.1.2 棱镜的选择 | 第39-40页 |
| §4.1.3 电光调制器封装 | 第40-41页 |
| §4.2 系统的整体设计和研制 | 第41-45页 |
| §4.2.1 微型干涉仪衬底及外壳设计 | 第42-43页 |
| §4.2.2 系统测试结果 | 第43-44页 |
| §4.2.3 高压放大器设计 | 第44-45页 |
| §4.3 本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 总结与展望 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| 附录 | 第50-54页 |
| 读研期间发表的论文 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55页 |