| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 1 绪论 | 第13-35页 |
| ·磁记录系统的基本工作原理 | 第15-16页 |
| ·硬盘和磁头结构 | 第16-19页 |
| ·盘片结构 | 第16-18页 |
| ·磁头结构 | 第18-19页 |
| ·硬盘、磁头保护膜的研究现状 | 第19-31页 |
| ·膜系种类 | 第19-26页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第26-31页 |
| ·硬盘、磁头保护膜中存在的问题 | 第31-33页 |
| ·本文主要研究内容 | 第33-35页 |
| 2 微波ECR等离子体增强非平衡磁控溅射系统及分析方法 | 第35-47页 |
| ·微波ECR等离子体源的特点 | 第35页 |
| ·微波ECR等离子体增强沉积技术 | 第35-38页 |
| ·薄膜制备 | 第38-41页 |
| ·基体预处理 | 第38-39页 |
| ·等离子体浸没离子注入沉积DLC薄膜 | 第39页 |
| ·微波ECR等离子体增强非平衡磁控溅射沉积CN_x薄膜 | 第39-40页 |
| ·微波ECR等离子体增强非平衡磁控溅射沉积SiCN薄膜 | 第40-41页 |
| ·薄膜结构与性能分析方法 | 第41-47页 |
| ·傅立叶变换红外光谱 | 第41-42页 |
| ·拉曼光谱 | 第42页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第42-43页 |
| ·薄膜表面形貌和显微结构 | 第43-44页 |
| ·薄膜硬度 | 第44-45页 |
| ·摩擦学性能 | 第45-47页 |
| 3 PIII& D制备DLC膜 | 第47-58页 |
| ·薄膜结构和性能分析 | 第47-56页 |
| ·DLC膜的沉积速率 | 第47-48页 |
| ·拉曼光谱 | 第48-50页 |
| ·原子力显微镜 | 第50-52页 |
| ·薄膜硬度 | 第52-53页 |
| ·摩擦学性能 | 第53-56页 |
| ·透射电子显微镜 | 第56页 |
| ·小结 | 第56-58页 |
| 4 微波ECR等离子体增强非平衡磁控溅射沉积CN_x薄膜 | 第58-73页 |
| ·提高碳含量 | 第58-65页 |
| ·沉积速率 | 第58-59页 |
| ·拉曼光谱 | 第59-61页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第61-63页 |
| ·原子力显微镜 | 第63-64页 |
| ·透射电子显微镜 | 第64-65页 |
| ·提高氮含量 | 第65-71页 |
| ·沉积速率 | 第65-66页 |
| ·拉曼光谱 | 第66-67页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第67-68页 |
| ·原子力显微镜 | 第68-70页 |
| ·透射电子显微镜 | 第70页 |
| ·摩擦学性能 | 第70-71页 |
| ·讨论 | 第71-72页 |
| ·小结 | 第72-73页 |
| 5 微波ECR等离子体增强非平衡磁控溅射沉积超薄SiCN薄膜 | 第73-122页 |
| ·提高碳含量 | 第73-84页 |
| ·薄膜生长速率 | 第73-74页 |
| ·傅立叶变换红外光谱 | 第74-77页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第77-79页 |
| ·薄膜硬度 | 第79-81页 |
| ·光学性能 | 第81-83页 |
| ·摩擦学性能 | 第83-84页 |
| ·提高N含量 | 第84-93页 |
| ·薄膜生长速率 | 第84-85页 |
| ·傅立叶变换红外光谱 | 第85-86页 |
| ·拉曼光谱 | 第86-88页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第88-90页 |
| ·薄膜硬度 | 第90-92页 |
| ·光学性能 | 第92页 |
| ·摩擦学性能 | 第92-93页 |
| ·调整Si含量 | 第93-102页 |
| ·薄膜生长速率 | 第93-94页 |
| ·傅立叶变换红外光谱 | 第94-96页 |
| ·Raman光谱 | 第96-97页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第97-99页 |
| ·薄膜硬度 | 第99-101页 |
| ·光学性能 | 第101-102页 |
| ·摩擦学性能 | 第102页 |
| ·调整离子轰击能量 | 第102-109页 |
| ·薄膜生长速率 | 第102-103页 |
| ·红外光谱分析 | 第103-104页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第104-105页 |
| ·薄膜硬度 | 第105-106页 |
| ·光学性能 | 第106-107页 |
| ·原子力显微镜 | 第107-108页 |
| ·摩擦学性能 | 第108页 |
| ·透射电子显微镜TEM | 第108-109页 |
| ·Al_2O_3上沉积超薄Si-C-N薄膜 | 第109-120页 |
| ·薄膜生长速率 | 第110页 |
| ·傅立叶变换红外光谱(FT-IR) | 第110-112页 |
| ·薄膜硬度 | 第112页 |
| ·薄膜的TEM分析 | 第112-114页 |
| ·摩擦学性能 | 第114-116页 |
| ·薄膜抗腐蚀性能 | 第116-117页 |
| ·薄膜表面形貌(AFM) | 第117-118页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第118-120页 |
| ·小结 | 第120-122页 |
| 结论 | 第122-124页 |
| 创新点摘要 | 第124-125页 |
| 参考文献 | 第125-136页 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第136-137页 |
| 致谢 | 第137-138页 |
