摘要 | 第1-9页 |
ABSTRACT | 第9-12页 |
第1章 绪论 | 第12-24页 |
·压电材料的研究现状与应用 | 第12-13页 |
·压电陶瓷的基本原理 | 第13-17页 |
·压电效应 | 第13-15页 |
·钙钛矿型结构中的电畴 | 第15-16页 |
·压电效应产生机理 | 第16-17页 |
·压电陶瓷的基本结构 | 第17-18页 |
·压电厚膜材料简介 | 第18-20页 |
·压电厚膜制备方法 | 第20-21页 |
·压电陶瓷基本参数 | 第21-22页 |
·课题的研究目的、意义及主要内容 | 第22-24页 |
第2章 PMS-PNN-PZT 压电厚膜材料的制备 | 第24-36页 |
·制备工艺路线 | 第24页 |
·实验所用仪器 | 第24页 |
·陶瓷基板制备 | 第24-25页 |
·印烧SiO_2缓冲层 | 第25页 |
·印烧下电极 | 第25页 |
·粉体的制备 | 第25-29页 |
·厚膜浆料的制备 | 第29-30页 |
·丝网印刷功能体层 | 第30页 |
·排塑 | 第30-31页 |
·烧成 | 第31-32页 |
·印烧上电极(银电极) | 第32-34页 |
·极化 | 第34-36页 |
第3章 性能测试 | 第36-39页 |
·样品密度的测定 | 第36页 |
·居里温度T_C的测试 | 第36-37页 |
·压电、介电性能的测试 | 第37-39页 |
第4章 PMS-PNN-PZT 压电厚膜的制备工艺研究 | 第39-55页 |
·预烧工艺的确定及粒度分析 | 第39-41页 |
·原料的DTA-TG 分析 | 第39-40页 |
·原料激光粒度分析 | 第40-41页 |
·烧结工艺对压电厚膜结构和性能的影响 | 第41-48页 |
·预烧粉体的XRD 分析 | 第41-42页 |
·烧结温度对PMS-PNN-PZT 压电厚膜陶瓷密度的影响 | 第42-43页 |
·不同烧结温度下PMS-PNN-PZT 压电厚膜XRD 分析 | 第43页 |
·烧结温度对PMS-PNN-PZT 压电厚膜性能的影响 | 第43-45页 |
·不同烧结温度下PMS-PNN-PZT 压电厚膜的SEM 分析 | 第45页 |
·保温时间对PMS-PNN-PZT 压电厚膜性能的影响 | 第45-46页 |
·烧结气氛对压电厚膜性能及结构的影响 | 第46-48页 |
·极化工艺对压电厚膜性能的影响 | 第48-51页 |
·极化场强对PMS-PNN-PZT 压电厚膜性能的影响 | 第49-50页 |
·极化时间对PMS-PNN-PZT 压电厚膜性能的影响 | 第50页 |
·极化温度对PMS-PNN-PZT 压电厚膜性能的影响 | 第50-51页 |
·厚膜印刷层数对厚膜结构和性能的影响及浆料分散研究 | 第51-54页 |
·厚膜印刷层数对厚膜结构和性能的影响 | 第51-53页 |
·丝网印刷用厚膜浆料分散剂的应用 | 第53页 |
·超声波分散对浆料分散的影响 | 第53-54页 |
·本章小结 | 第54-55页 |
第5章 组成及掺杂对PMS-PNN-PZT 压电厚膜性能的影响 | 第55-61页 |
·组成对PMS-PNN-PZT 压电厚膜相结构和性能的影响 | 第55-58页 |
·PMS 对PMS-PNN-PZT 压电厚膜性能的影响 | 第55-57页 |
·PNN 对PMS-PNN-PZT 压电厚膜性能的影响 | 第57-58页 |
·PbO 含量对PMS-PNN-PZT 压电厚膜相结构和性能的影响 | 第58页 |
·掺杂对PMS-PNN-PZT 压电厚膜性能的影响 | 第58-61页 |
·Sr 掺杂对PMS-PNN-PZT 压电厚膜性能的影响 | 第58-59页 |
·Ce 掺杂对PMS-PNN-PZT 压电厚膜性能的影响 | 第59页 |
·Mn 掺杂对PMS-PNN-PZT 压电厚膜性能的影响 | 第59-61页 |
第6章 缓冲层的应用及等静压处理对压电厚膜结构和性能的影响 | 第61-68页 |
·缓冲层的应用 | 第61-65页 |
·样品SEM 分析 | 第61-64页 |
·样品性能比较 | 第64-65页 |
·等静压处理对 PMS-PNN-PZT 压电厚膜结构和性能的影响 | 第65-67页 |
·等静压处理对 PMS-PNN-PZT 压电厚膜密度的影响 | 第65-66页 |
·等静压处理前后 PMS-PNN-PZT 压电厚膜的 SEM 分析 | 第66-67页 |
·本章小结 | 第67-68页 |
第7章 结论 | 第68-70页 |
参考文献 | 第70-75页 |
致谢 | 第75-76页 |
攻读硕士学位期间取得的科研成果 | 第76页 |