| 中文摘要 | 第1-13页 |
| 英文摘要 | 第13-15页 |
| 第一章 引言 | 第15-52页 |
| ·铁电陶瓷的基本概念 | 第16-22页 |
| ·铁电体简介 | 第16-18页 |
| ·自发极化 | 第18-19页 |
| ·极化反转 | 第19-22页 |
| ·电畴观测及研究进展 | 第22-28页 |
| ·电畴的基本概念 | 第22页 |
| ·电畴的观测方法及研究现状 | 第22-28页 |
| ·畴变观测及研究现状 | 第28-33页 |
| ·畴变的定义、导致后果及引致因素 | 第28-29页 |
| ·畴变的观测方法及研究现状 | 第29-33页 |
| ·目前电畴及畴变观测存在的问题 | 第33-35页 |
| ·Raman 光谱技术在铁电陶瓷畴变研究中的应用 | 第35-48页 |
| ·铁电相变的微观理论 | 第35-40页 |
| ·Raman 光谱的宏观理论 | 第40-48页 |
| ·论文的研究内容和研究意义 | 第48-50页 |
| ·研究内容 | 第48-49页 |
| ·研究意义 | 第49-50页 |
| ·论文的创新点 | 第50-52页 |
| 第二章 实验材料、方法与装置 | 第52-66页 |
| ·实验材料 | 第52-53页 |
| ·试样的预处理 | 第53-55页 |
| ·试样的光刻蚀处理 | 第53-55页 |
| ·维氏压痕的引入 | 第55页 |
| ·材料的结构、形貌与性能测试 | 第55-57页 |
| ·材料的结构参数 | 第55页 |
| ·材料的表面形貌 | 第55页 |
| ·材料的电滞回线 | 第55-57页 |
| ·畴变的原位Raman 观测 | 第57-66页 |
| ·试样的初始Raman 光谱测试 | 第59页 |
| ·90° 旋转条件下畴变的原位Ramana 观测 | 第59-60页 |
| ·外加直流电场条件下畴变的原位Raman 观测 | 第60-61页 |
| ·电疲劳条件下畴变的原位Raman 观测 | 第61-62页 |
| ·维氏压痕裂纹尖端畴变的原位Raman 观测 | 第62-66页 |
| 第三章 实验结果 | 第66-101页 |
| ·试样的表面刻槽形貌 | 第66-67页 |
| ·试样的微观结构 | 第67-68页 |
| ·试样的宏观性能 | 第68-74页 |
| ·点阵参数 | 第68页 |
| ·铁电性能 | 第68-74页 |
| ·畴变的原位Raman 光谱 | 第74-100页 |
| ·试样的初始Raman 光谱 | 第74-77页 |
| ·90° 旋转条件下畴变的原位Raman 光谱 | 第77-80页 |
| ·直流电场条件下畴变的原位Raman 光谱 | 第80-83页 |
| ·电疲劳条件下畴变的原位Raman 光谱 | 第83-87页 |
| ·维氏压痕裂纹尖端畴变区域的原位Raman 光谱 | 第87-100页 |
| ·维氏压痕裂尖四角处畴变的原位Raman 光谱 | 第87-91页 |
| ·维氏压痕裂尖处外电场作用下畴变的原位Raman 光谱 | 第91-96页 |
| ·维氏压痕裂尖小范围畴变区域的Raman 光谱 | 第96-100页 |
| ·本章小结 | 第100-101页 |
| 第四章 结果讨论 | 第101-117页 |
| ·单晶散射体畴变的Raman 光谱分析 | 第101-108页 |
| ·多晶散射体畴变的Raman 光谱分析 | 第108-112页 |
| ·外电场作用下材料畴变的Raman 光谱分析 | 第112-115页 |
| ·直流电场作用下畴变与Raman 光谱强度变化之间的关系 | 第112-113页 |
| ·电疲劳过程中畴变与Raman 光谱强度变化之间的关系 | 第113-114页 |
| ·裂纹尖端畴变与Raman 光谱强度变化之间的关系 | 第114-115页 |
| ·本章小结 | 第115-117页 |
| 第五章 结论 | 第117-119页 |
| 第六章 对未来研究工作的建议 | 第119-121页 |
| 参考文献 | 第121-127页 |
| 攻读博士期间发表的论文 | 第127-128页 |
| 致谢 | 第128页 |
