反向流动垂直喷淋式MOCVD反应器输运过程的数值模拟
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-26页 |
| ·化学气相沉积原理 | 第15-16页 |
| ·金属有机化学气相沉积 | 第16-18页 |
| ·CVD输运过程 | 第18-20页 |
| ·CVD反应器分类 | 第20-22页 |
| ·垂直喷淋式MOCVD反应器 | 第22-25页 |
| ·本论文的主要目标 | 第25-26页 |
| 第二章 反向流动垂直喷淋式反应器设计与数学模型 | 第26-32页 |
| ·反向流动垂直喷淋式MOCVD反应器设计原理 | 第26-27页 |
| ·对反应器建模的基本假设和模型特性 | 第27-28页 |
| ·控制方程和边界条件 | 第28-29页 |
| ·气体热物性参数 | 第29-32页 |
| 第三章 数值模拟方法 | 第32-43页 |
| ·控制方程的离散 | 第33-34页 |
| ·双向坐标与单向坐标 | 第34页 |
| ·SIMPLE算法 | 第34-38页 |
| ·FLUENT软件简介和一些使用经验 | 第38-43页 |
| 第四章 数值模拟结果与讨论 | 第43-66页 |
| ·二维轴对称模拟 | 第43-49页 |
| ·反应室内压强变化的影响 | 第44-46页 |
| ·出口方式的影响 | 第46-47页 |
| ·不同进口流速的影响 | 第47-48页 |
| ·喷管末端到衬底的距离变化的影响 | 第48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| ·三维单元体模拟 | 第49-54页 |
| ·喷管中心距的影响 | 第50-51页 |
| ·进口处流速的影响 | 第51-52页 |
| ·反应室压强的影响 | 第52-53页 |
| ·喷管端到衬底距离的影响 | 第53-54页 |
| ·小结 | 第54页 |
| ·GAN生长的化学反应模拟 | 第54-59页 |
| ·三维完整反应器模拟 | 第59-64页 |
| ·对CVD数值模拟的深入思考 | 第64-66页 |
| 第五章 利用电晕放电影响MOCVD流动的实验探索 | 第66-75页 |
| ·电晕原理与电晕技术 | 第66-69页 |
| ·电晕对流动和传热的影响 | 第69-70页 |
| ·电晕放电实验装置 | 第70页 |
| ·实验结果分析 | 第70-75页 |
| ·垂直式装置电晕实验结果分析 | 第70-71页 |
| ·水平式实验装置电晕实验结果分析 | 第71-75页 |
| 第六章 全文总结与展望 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-80页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
