磁控溅射法制备ZnO透明导电薄膜组织与性能研究
| 第一章 绪论 | 第1-26页 |
| ·选题意义 | 第12-13页 |
| ·透明导电薄膜的国内外研究现状 | 第13-16页 |
| ·薄膜的种类及性能 | 第13-14页 |
| ·氧化物膜系透明导电薄膜 | 第14-15页 |
| ·柔性衬底氧化物膜系透明导电薄膜 | 第15-16页 |
| ·透明导电薄膜的制备技术进展 | 第16-21页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-gel) | 第16-17页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第17-18页 |
| ·真空蒸发法(Evaporation) | 第18-19页 |
| ·离子镀法(Ion plating) | 第19-20页 |
| ·溅射法(Sputtering) | 第20-21页 |
| ·其他制备TCO膜的方法 | 第21页 |
| ·透明导电薄膜的微结构与性能研究现状 | 第21-22页 |
| ·透明导电薄膜的微结构 | 第21-22页 |
| ·透明导电薄膜的性能 | 第22页 |
| ·透明导电薄膜的应用 | 第22-23页 |
| ·在航空、航天及军事工业上应用 | 第22-23页 |
| ·在能源工业上应用 | 第23页 |
| ·在汽车及家电工业上应用 | 第23页 |
| ·透明导电薄膜的发展方向 | 第23-25页 |
| ·在新型透明导电薄膜材料开发方面 | 第23-24页 |
| ·在新型制备技术研究方面 | 第24-25页 |
| ·在应用研究或产业化方面 | 第25页 |
| ·本课题的主要研究内容 | 第25-26页 |
| 第二章 TCO薄膜设计及试验方法 | 第26-35页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·衬底(基体)的选取 | 第26-27页 |
| ·选取原则 | 第26页 |
| ·硬质衬底 | 第26页 |
| ·柔性衬底 | 第26-27页 |
| ·衬底(基体)的表面处理 | 第27页 |
| ·TCO薄膜材料的选取 | 第27-28页 |
| ·透明导电膜用氧化物的种类和性能 | 第27-28页 |
| ·ZnO的特点及掺杂技术 | 第28页 |
| ·组织结构分析方法 | 第28-30页 |
| ·薄膜表面形貌观察和分析 | 第28-29页 |
| ·薄膜的相结构分析 | 第29-30页 |
| ·薄膜性能测试方法 | 第30-35页 |
| ·方块电阻和电阻率 | 第30-32页 |
| ·光学透过率 | 第32页 |
| ·薄膜-基体界面结合强度(附着力) | 第32-35页 |
| 第三章 磁控溅射法制备ZnO透明导电薄膜 | 第35-60页 |
| ·磁控溅射法原理及特点 | 第35-37页 |
| ·射频磁控溅射的基本原理 | 第35-36页 |
| ·射频磁控溅射的成膜特点 | 第36页 |
| ·超高真空多功能磁控溅射设备 | 第36-37页 |
| ·磁控溅射靶材的制备 | 第37-42页 |
| ·制靶用原材料和设备 | 第37-38页 |
| ·靶材的制备 | 第38-39页 |
| ·靶材的测试与分析 | 第39-42页 |
| ·磁控溅射法制备ZnO薄膜 | 第42-59页 |
| ·制备工艺流程 | 第42-43页 |
| ·工艺参数对薄膜形貌的影响 | 第43-56页 |
| ·不同基体(衬底)的影响 | 第56-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第四章 ZnO薄膜的微结构和界面强度 | 第60-72页 |
| ·ZnO薄膜组成及其微结构分析 | 第60-68页 |
| ·溅射薄膜的XRD分析 | 第60-64页 |
| ·薄膜的化学组成EDS分析 | 第64-66页 |
| ·薄膜的表面微结构 | 第66-68页 |
| ·薄膜—基体界面结构与结合强度 | 第68-71页 |
| ·薄膜—基体界面结构 | 第68页 |
| ·薄膜—基体界面结合强度(附着力) | 第68-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第五章 ZnO薄膜的光学特性 | 第72-82页 |
| ·引言 | 第72-73页 |
| ·ZnO薄膜的光学性能 | 第73-79页 |
| ·测试方法及设备 | 第73页 |
| ·溅射功率对薄膜透光率的影响 | 第73-74页 |
| ·氩气分压对薄膜透光率的影响 | 第74-75页 |
| ·靶材—基体间距对薄膜透光率的影响 | 第75-76页 |
| ·衬底上负偏压对薄膜透光率的影响 | 第76-77页 |
| ·薄膜厚度对薄膜透光率的影响 | 第77-78页 |
| ·不同衬底材料对薄膜透光率的影响 | 第78-79页 |
| ·掺杂对ZnO薄膜透光率的影响 | 第79页 |
| ·ZnO薄膜的透光机制 | 第79-81页 |
| ·本章小结 | 第81-82页 |
| 第六章 ZnO薄膜的电学特性 | 第82-92页 |
| ·引言 | 第82页 |
| ·ZnO薄膜的电学性能 | 第82-90页 |
| ·溅射功率对薄膜电阻率的影响 | 第82-84页 |
| ·氩气分压对薄膜电阻率的影响 | 第84页 |
| ·靶材—基体间距对薄膜电阻率的影响 | 第84-86页 |
| ·衬底偏压对薄膜电阻率的影响 | 第86-88页 |
| ·溅射时间(沉积时间)对薄膜电阻率的影响 | 第88-89页 |
| ·不同基体和掺杂对薄膜电阻率的影响影响 | 第89-90页 |
| ·ZnO薄膜的导电机制 | 第90-91页 |
| ·本章小结 | 第91-92页 |
| 第七章 主要结论 | 第92-94页 |
| 第八章 展望 | 第94-96页 |
| ·本课题制备ZnO薄膜的应用前景 | 第94-95页 |
| ·本课题的后续研究工作 | 第95-96页 |
| 参考文献 | 第96-99页 |
| 致谢 | 第99-100页 |
| 硕士期间发表论文 | 第100页 |
