第一章 绪论 | 第1-15页 |
·MOCVD概述 | 第10-11页 |
·MOCVD国内外研究现状 | 第11-13页 |
·国外研究现状 | 第11-12页 |
·国内研究现状 | 第12-13页 |
·本文研究的目的和意义 | 第13页 |
·本文研究的主要内容和方法 | 第13-15页 |
·主要研究内容 | 第13-14页 |
·主要研究方法 | 第14-15页 |
第二章 MOCVD的基础理论及其数学模型的建立 | 第15-26页 |
·MOCVD的基础理论 | 第15-21页 |
·MOCVD系统的构成 | 第15-16页 |
·MOCVD反应室的分类 | 第16-18页 |
·新型的MOCVD反应室 | 第18页 |
·本文的MOCVD系统 | 第18-21页 |
·MOCVD系统中的动力学分析 | 第21-23页 |
·MOCVD沉积的基本过程 | 第21-22页 |
·边界层理论 | 第22-23页 |
·气体的输运特性 | 第23页 |
·本文轴对称MOCVD反应器的数学模型 | 第23-26页 |
第三章 数值计算方法 | 第26-41页 |
·用于数值计算的微分方程通用形式 | 第27-28页 |
·双向坐标和单向坐标 | 第28页 |
·网格的生成 | 第28-33页 |
·贴体网格生成技术 | 第29页 |
·对贴体坐标的要求及生成方法分类 | 第29-30页 |
·生成贴体计算网格的微分方程法 | 第30-33页 |
·通用微分方程的离散化 | 第33-34页 |
·对流与扩散的处理 | 第34-37页 |
·压强连接方程半隐式算法(SIMPLE) | 第37-41页 |
第四章 轴对称MOCVD反应器内部二维流动的数值模拟 | 第41-59页 |
·MOCVD反应器三维模型 | 第41页 |
·MOCVD反应器网格的生成 | 第41-42页 |
·反应器内部二维流动的数值模拟 | 第42-59页 |
·计算区域 | 第42-43页 |
·进口边界条件 | 第43页 |
·出口边界条件 | 第43页 |
·固壁边界条件 | 第43页 |
·衬底边界条件 | 第43页 |
·温度边界条件 | 第43-44页 |
·数值计算结果及分析 | 第44-59页 |
第五章 MOCVD反应器内数值模拟与实验结果的分析比较 | 第59-67页 |
·国外实验一 | 第59-61页 |
·实验装置 | 第59-60页 |
·实验结果 | 第60-61页 |
·本文的模拟结果及与国外实验一的比较 | 第61-63页 |
·国外实验二 | 第63-64页 |
·实验方法及仪器 | 第63-64页 |
·实验结果 | 第64页 |
·本文的模拟结果及与国外实验二的比较 | 第64-67页 |
第六章 结束语 | 第67-69页 |
参考文献 | 第69-73页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第73-74页 |
致谢 | 第74页 |