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新型激光直写系统的优化设计与工艺研究

一、引言第1-21页
 1.1 研究背景第11-12页
 1.2 激光直写系统的分类第12-15页
 1.3 国内外研究现状第15-18页
 1.4 论文的研究内容与结构第18-19页
 1.5 论文的创新点与特色第19-21页
二、系统软硬件性能分析及设计第21-34页
 2.1 SVG-LDW04激光直写系统结构分析第21-26页
 2.2 系统优化设计第26-34页
  2.2.1 调整偏振方向第26页
  2.2.2 系统软件设计第26-34页
   2.2.2.1 数据处理方式第27-28页
   2.2.2.2 控制程序第28-31页
   2.2.2.3 曝光方式第31-32页
   2.2.2.4 软件界面简介第32-34页
三、直写工艺与应用研究第34-67页
 3.1 多台阶二元光学元件的制作方法和工艺研究第34-48页
  3.1.1 设计理论第35-38页
  3.1.2 制作方法第38-43页
   3.1.2.1 曝光时间与刻蚀高度第41-43页
   3.1.2.2 光刻胶涂布第43页
  3.1.3 制作实例及结果分析第43-48页
 3.2 可控槽型光栅的实现方法及工艺研究第48-56页
  3.2.1 实现原理第49-50页
  3.2.2 光点尺寸与刻蚀深度第50-52页
  3.2.3 制作实例第52-56页
 3.3 非彩色OVD的实现方案研究第56-67页
  3.3.1 实现方法第57-58页
  3.3.2 数字化结构第58-59页
  3.3.3 模板方案第59-63页
  3.3.4 制作实例第63-67页
四、结论与展望第67-71页
 4.1 论文总结第67-68页
 4.2 论文今后工作第68-71页
参考文献第71-75页
攻读硕士学位期间公开发表的论文第75-76页
致谢第76页

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