新型激光直写系统的优化设计与工艺研究
一、引言 | 第1-21页 |
1.1 研究背景 | 第11-12页 |
1.2 激光直写系统的分类 | 第12-15页 |
1.3 国内外研究现状 | 第15-18页 |
1.4 论文的研究内容与结构 | 第18-19页 |
1.5 论文的创新点与特色 | 第19-21页 |
二、系统软硬件性能分析及设计 | 第21-34页 |
2.1 SVG-LDW04激光直写系统结构分析 | 第21-26页 |
2.2 系统优化设计 | 第26-34页 |
2.2.1 调整偏振方向 | 第26页 |
2.2.2 系统软件设计 | 第26-34页 |
2.2.2.1 数据处理方式 | 第27-28页 |
2.2.2.2 控制程序 | 第28-31页 |
2.2.2.3 曝光方式 | 第31-32页 |
2.2.2.4 软件界面简介 | 第32-34页 |
三、直写工艺与应用研究 | 第34-67页 |
3.1 多台阶二元光学元件的制作方法和工艺研究 | 第34-48页 |
3.1.1 设计理论 | 第35-38页 |
3.1.2 制作方法 | 第38-43页 |
3.1.2.1 曝光时间与刻蚀高度 | 第41-43页 |
3.1.2.2 光刻胶涂布 | 第43页 |
3.1.3 制作实例及结果分析 | 第43-48页 |
3.2 可控槽型光栅的实现方法及工艺研究 | 第48-56页 |
3.2.1 实现原理 | 第49-50页 |
3.2.2 光点尺寸与刻蚀深度 | 第50-52页 |
3.2.3 制作实例 | 第52-56页 |
3.3 非彩色OVD的实现方案研究 | 第56-67页 |
3.3.1 实现方法 | 第57-58页 |
3.3.2 数字化结构 | 第58-59页 |
3.3.3 模板方案 | 第59-63页 |
3.3.4 制作实例 | 第63-67页 |
四、结论与展望 | 第67-71页 |
4.1 论文总结 | 第67-68页 |
4.2 论文今后工作 | 第68-71页 |
参考文献 | 第71-75页 |
攻读硕士学位期间公开发表的论文 | 第75-76页 |
致谢 | 第76页 |