| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-13页 |
| ·光学薄膜的发展回顾 | 第8-10页 |
| ·薄膜概述 | 第8页 |
| ·光学薄膜的发展 | 第8-10页 |
| ·高功率半导体激光器腔面薄膜的发展 | 第10-12页 |
| ·高功率半导体激光器概述 | 第10页 |
| ·高功率半导体激光器腔面镀膜概述 | 第10-12页 |
| ·课题背景及论文的主要内容 | 第12-13页 |
| 第二章：高功率半导体激光器腔面镀膜要求及膜材料的选取 | 第13-19页 |
| ·薄膜设计要求 | 第13-14页 |
| ·薄膜材料的选择 | 第14-19页 |
| ·基片的材料 | 第14页 |
| ·薄膜材料的选择 | 第14-19页 |
| ·输出半反膜材料的选择 | 第15-16页 |
| ·高反射膜材料的选择 | 第16-19页 |
| 第三章：高功率半导体激光器的膜系设计 | 第19-36页 |
| ·薄膜特征矩阵的推导 | 第19-22页 |
| ·增透膜的原理及输出半反射膜的设计 | 第22-27页 |
| ·单层增透膜原理 | 第22-23页 |
| ·输出半反射膜的设计 | 第23-27页 |
| ·多层高反射膜的原理及设计 | 第27-36页 |
| ·周期性多层膜矩阵理论 | 第27-29页 |
| ·高反射膜系统的光学损耗 | 第29-34页 |
| ·反射膜系中的驻波场分布 | 第29-30页 |
| ·反射膜系中的吸收损耗 | 第30-32页 |
| ·反射膜系中的散射损耗 | 第32-34页 |
| ·高反射膜系的设计 | 第34-36页 |
| 第四章 薄膜的制备 | 第36-47页 |
| ·薄膜的生长 | 第36页 |
| ·影响薄膜生长及光学常数的一些因素 | 第36-38页 |
| ·基片质量 | 第38-39页 |
| ·基片材料抛光 | 第38-39页 |
| ·基片的清洗 | 第39页 |
| ·混合膜料的加工 | 第39-40页 |
| ·电子束真空蒸发设备原理及镀制过程 | 第40-45页 |
| ·常用的薄膜蒸镀的方法 | 第40-42页 |
| ·电子束蒸发设备与原理 | 第42-44页 |
| ·薄膜的膜厚监控 | 第44页 |
| ·薄膜制备的操作过程和参数 | 第44-45页 |
| ·成膜后的处理 | 第45-47页 |
| 第五章 薄膜的测试分析及应用效果 | 第47-58页 |
| ·激光损伤的研究与分析 | 第47-48页 |
| ·激光损伤的机理 | 第47页 |
| ·保护膜的应用 | 第47-48页 |
| ·输出半反射膜的测试结果及分析 | 第48-50页 |
| ·高反射膜系的测试结果及分析 | 第50-56页 |
| ·在激光器上的应用结果及分析 | 第56-58页 |
| 结束语 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 个人简历 | 第63页 |