| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪 论 | 第9-13页 |
| ·全光通信、光交叉连接与光开关 | 第9-10页 |
| ·光开关的分类、特点与发展状况 | 第10-12页 |
| ·课题来源与本文的主要内容 | 第12-13页 |
| 第二章 MEMS集成化设计方法及其平台 | 第13-20页 |
| ·引言 | 第13页 |
| ·MEMS的集成化设计方法 | 第13-17页 |
| ·MEMS设计中的分级模拟 | 第13-14页 |
| ·自底向上设计法 | 第14-15页 |
| ·自顶向下设计法 | 第15-17页 |
| ·MEMS集成化设计平台 | 第17-19页 |
| ·小结 | 第19-20页 |
| 第三章 一种基于微反射镜的光开关结构设计 | 第20-29页 |
| ·光开关的主要性能描述参数 | 第20-21页 |
| ·双轴微镜MEMS光开关的主体结构 | 第21-23页 |
| ·双轴微镜的驱动与定位 | 第23-25页 |
| ·微反射镜面设计 | 第25-26页 |
| ·双轴微镜MEMS光开关的系统级模拟方法与宏模型 | 第26-28页 |
| ·小结 | 第28-29页 |
| 第四章 双轴微镜MEMS光开关的数值分析 | 第29-43页 |
| ·有限元分析方法 | 第29-34页 |
| ·有限元分析的基本思想 | 第29-30页 |
| ·有限元单元选取 | 第30-34页 |
| ·双轴微镜MEMS光开关的有限元模型 | 第34页 |
| ·双轴微镜的结构分析 | 第34-36页 |
| ·模态分析 | 第34-36页 |
| ·动响应分析 | 第36页 |
| ·双轴微镜的静电场－结构场耦合分析 | 第36-41页 |
| ·多物理场耦合计算方法 | 第36-38页 |
| ·双轴微镜的静电场－结构场耦合分析 | 第38-41页 |
| ·双轴微反射镜的吸合电压分析 | 第41-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 第五章 微镜光学特性分析 | 第43-52页 |
| ·引言 | 第43页 |
| ·镜面参数对光学特性影响 | 第43-45页 |
| ·反射系数和折射系数 | 第43-44页 |
| ·表面粗糙度的影响 | 第44-45页 |
| ·激光传输及其相关属性 | 第45-48页 |
| ·激光传输原理 | 第45-46页 |
| ·高斯光束属性 | 第46-48页 |
| ·基于MemOptic的微镜光学特性分析 | 第48-51页 |
| ·穿孔大小对微镜光学特性的影响 | 第49-50页 |
| ·光纤高度位置对微镜光学特性的影响 | 第50-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 第六章 双轴微镜MEMS光开关的工艺实现 | 第52-64页 |
| ·MEMS硅工艺 | 第52-55页 |
| ·MEMS硅工艺的基本工艺方法 | 第52-53页 |
| ·表面牺牲层加工工艺 | 第53-54页 |
| ·体硅加工工艺 | 第54-55页 |
| ·基于两层多晶硅表面工艺的光开关版图设计与工艺模拟 | 第55-58页 |
| ·一种标准三层多晶硅表面工艺--PolyMUMPS | 第58-60页 |
| ·多用户MEMS加工工艺--MUMPs | 第59页 |
| ·PolyMUMPs工艺流程 | 第59-60页 |
| ·面向PolyMUMPs工艺的双轴微镜MEMS光开关的结构改进 | 第60-61页 |
| ·改进型双轴微镜MEMS光开关的版图设计与工艺模拟 | 第61-63页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| 第七章 总结与展望 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-67页 |
| 致 谢 | 第67-68页 |
| 附录Ⅰ 基于两层多晶硅表面工艺的加工版图 | 第68-69页 |
| 附录Ⅱ 基于PolyMUMPs表面工艺的加工版图 | 第69页 |
