| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 第一章 文献综述 | 第6-19页 |
| ·介质阻挡放电的放电原理和一般性质 | 第6页 |
| ·介质阻挡放电的物理过程和实验研究 | 第6-9页 |
| ·介质阻挡放电的应用 | 第9-12页 |
| ·类金刚石膜结构、性能、应用及其制备方法 | 第12-18页 |
| ·本文选题背景和依据 | 第18-19页 |
| 第二章 介质阻挡放电制备类金刚石膜的过程和膜的性能表征 | 第19-23页 |
| ·实验装置及实验过程介绍 | 第19-21页 |
| ·薄膜表征和分析手段 | 第21-23页 |
| 第三章 Ar+CH_4介质阻挡放电制备DLC膜 | 第23-29页 |
| ·掺Ar对类金刚石膜硬度的影响 | 第23-24页 |
| ·掺Ar类金刚石膜结构的FTIR分析 | 第24-27页 |
| ·掺Ar对类金刚石膜表面形貌的影响 | 第27-28页 |
| ·掺Ar对类金刚石膜沉积速率的影响 | 第28页 |
| 小结 | 第28-29页 |
| 第四章 He+CH_4介质阻挡放电制各DLC膜 | 第29-40页 |
| ·掺He对类金刚石膜硬度的影响 | 第29-30页 |
| ·掺He类金刚石膜的FTIR分析 | 第30-33页 |
| ·Raman光谱测试结果及分析 | 第33-35页 |
| ·掺He对类金刚石膜表面形貌的影响 | 第35-36页 |
| ·掺He对介质阻挡放电制备DLC膜沉积速率的影响 | 第36-37页 |
| ·掺He和Ar对介质阻挡放电制备DLC膜的性质影响的比较 | 第37-39页 |
| 小结 | 第39-40页 |
| 第五章 等离子体化学气相沉积制备类金刚石膜机理的探讨 | 第40-44页 |
| 一、 等离子体化学气相沉积类金刚石膜的机理 | 第40-41页 |
| 二、 等离子体中的化学反应和化学成分 | 第41页 |
| 三、 等离子体与表面的反应 | 第41-44页 |
| 第六章 展望 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-48页 |
| 在读期间发表的与学位论文相关的论文 | 第48页 |
| 本论文创新点 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49-51页 |
