| 致谢 | 第1-7页 |
| 中文摘要 | 第7-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 缩略语 | 第11-12页 |
| 目次 | 第12-14页 |
| 1 引言 | 第14-19页 |
| ·工频磁场的DNA损伤效应研究现状 | 第15-17页 |
| ·体内研究 | 第15页 |
| ·体外研究 | 第15-17页 |
| ·γH2AX是DNA DSBs的一个早期敏感标志物 | 第17-19页 |
| 2 实验材料 | 第19-26页 |
| ·仪器设备 | 第19-20页 |
| ·耗材 | 第20页 |
| ·试剂 | 第20-21页 |
| ·细胞种类、来源及主要培养液 | 第21-22页 |
| ·实验相关试剂配方 | 第22-25页 |
| ·免疫荧光相关试剂 | 第22-23页 |
| ·免疫印迹相关试剂 | 第23-25页 |
| ·工频磁场暴露系统和辐照参数的选择 | 第25-26页 |
| 3 实验方法 | 第26-30页 |
| ·细胞常规培养 | 第26页 |
| ·实验分组与处理 | 第26页 |
| ·γH2AX免疫荧光实验 | 第26-27页 |
| ·γH2AX免疫印迹实验 | 第27-29页 |
| ·核蛋白提取与定量 | 第27-28页 |
| ·免疫印迹实验 | 第28-29页 |
| ·数据统计分析 | 第29-30页 |
| 4 实验结果 | 第30-54页 |
| ·50Hz工频磁场对FL细胞DNA损伤的影响 | 第30-38页 |
| ·FL细胞γH2AX免疫荧光实验 | 第30-36页 |
| ·FL细胞γH2AX免疫印迹实验 | 第36-38页 |
| ·50Hz工频磁场对HUVEC细胞DNA损伤的影响 | 第38-46页 |
| ·HUVEC细胞γH2AX免疫荧光实验 | 第38-44页 |
| ·HUVEC细胞γH2AX免疫印迹实验 | 第44-46页 |
| ·50Hz工频磁场对HSF细胞DNA损伤的影响 | 第46-54页 |
| ·HSF细胞γH2AX免疫荧光实验 | 第46-51页 |
| ·HSF细胞γH2AX免疫印迹实验 | 第51-54页 |
| 5 讨论 | 第54-57页 |
| 6 结论 | 第57-58页 |
| 7 参考文献 | 第58-63页 |
| 8 综述 | 第63-72页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 9 作者简介及科研成果 | 第72页 |