钼酸铅晶体表面镀制光学薄膜的工艺研究

第一章 绪论	第1-20页
·光学薄膜在国内外的发展概况	第14-16页
·本课题的来源、目的及主要研究内容	第16-17页
·课题成果的应用前景	第17-20页
第二章 光学薄膜的基本原理及相关计算	第20-34页
·增透膜设计中的相关计算	第20-31页
·单层增透膜的反射率的计算	第20-24页
·多层增透膜的反射率的计算	第24-29页
·理论膜系的反射率	第29-30页
·膜系设计前进行的估计	第30-31页
·增透膜设计中的隐含规律	第31-34页
·表面反射对光学系统性能的影响	第31-32页
·膜层折射率均匀的增透膜	第32-33页
·非垂直入射下的增透膜	第33-34页
第三章 膜系设计中图解法的应用	第34-38页
·图解法应用的目的及意义	第34页
·反射率图解法的应用	第34-38页
第四章 薄膜样品的生产试验及性能测试	第38-49页
·样品的生产试验流程	第38-46页
·真空蒸发镀膜原理	第38-41页
·实验装置及设备	第41-43页
·膜层材料的选择	第43页
·实验方法及过程	第43-44页
·膜厚控制	第44-46页
·样品的性能测试及结果	第46-49页
·光学性能测试	第46-47页
·表面质量检验	第47-48页
·膜层牢固度检验	第48页
·环境试验	第48-49页
第五章 离子束辅助沉积技术在镀膜生产中的应用	第49-54页
·离子束辅助沉积技术的原理	第49-50页
·实验装置与工艺试验	第50-52页
·可能造成膜层麻点的原因及分析	第52-54页
第六章 结论	第54-56页
参考文献	第56-59页
个人论文	第59-60页
附录一 计算程序及部分结果	第60-62页
附录二 美国军用标准MIL-C-48497A	第62-71页