厚层抗蚀剂成像特性研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| 第一章 前言 | 第6-14页 |
| ·微电子机械系统的发展现状及其加工技术 | 第6-9页 |
| ·厚层抗蚀剂光刻术 | 第9-10页 |
| ·光刻模拟术的发展过程 | 第10-12页 |
| ·厚层抗蚀剂光刻模拟存在的困难 | 第12-13页 |
| ·本文的主要内容 | 第13-14页 |
| 第二章 抗蚀剂的光化学及动力学机理 | 第14-31页 |
| ·引言 | 第14页 |
| ·抗蚀剂的基本性质 | 第14-17页 |
| ·正性抗蚀剂的成份及其典型反应 | 第14-15页 |
| ·抗蚀剂的成像机理 | 第15-17页 |
| ·抗蚀剂的分辨率和灵敏度 | 第17页 |
| ·抗蚀剂的曝光动力学 | 第17-22页 |
| ·光在抗蚀剂中的吸收 | 第17-20页 |
| ·抗蚀剂的光化学反应过程 | 第20-22页 |
| ·抗蚀剂的曝光模型 | 第22页 |
| ·抗蚀剂的显影动力学 | 第22-27页 |
| ·Dill显影模型 | 第23页 |
| ·Mack显影模型 | 第23-25页 |
| ·Notch显影模型 | 第25-27页 |
| ·抗蚀剂的烘烤过程 | 第27-31页 |
| ·抗蚀剂的前烘模型 | 第27-28页 |
| ·抗蚀剂的后烘模型 | 第28-31页 |
| 第三章 厚层抗蚀剂光刻模型 | 第31-45页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·抗蚀剂曝光参数的提取 | 第31-34页 |
| ·厚层抗蚀剂的曝光参数 | 第34-36页 |
| ·抗蚀剂折射率变化对光场的影响 | 第36-41页 |
| ·厚层抗蚀剂显影特性 | 第41-45页 |
| ·显影参数随抗蚀剂深度的变化 | 第41-43页 |
| ·表面抑制效应 | 第43-45页 |
| 第四章 厚层抗蚀剂成像特性分析 | 第45-68页 |
| ·引言 | 第45-46页 |
| ·显影过程的计算机实现方法 | 第46-50页 |
| ·折射率变化对厚层抗蚀剂内部光场的影响 | 第50-53页 |
| ·后烘对抗蚀剂显影轮廓的改善 | 第53-56页 |
| ·驻波效应对厚层抗蚀剂显影轮廓的影响 | 第56-59页 |
| ·厚层抗蚀剂显影轮廓特点分析 | 第59-66页 |
| ·AZ4562显影轮廓实验结果 | 第66-68页 |
| 第五章 总结 | 第68-69页 |
| 声明 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 附录 | 第74-76页 |
| 一 攻读硕士学位期间发表及合作发表的文章 | 第74页 |
| 二 攻读硕士学位期间参加的科研任务 | 第74-75页 |
| 三 厚层抗蚀剂曝光参数测量方法 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
