| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-24页 |
| 1．1 低介电常数材料研究背景 | 第8-10页 |
| 1．2 低介电常数材料研究现状 | 第10-13页 |
| 1．3 非晶C:F低k薄膜材料 | 第13-21页 |
| 1．4 本文的主要研究内容 | 第21-24页 |
| 第二章 α-C:F薄膜的制备方法 | 第24-30页 |
| 2．1 微波ECR等离子体CVD沉积薄膜的原理 | 第24页 |
| 2．2 α-C:F薄膜材料沉积条件的选择原则 | 第24-26页 |
| 2．3 α-C:F薄膜材料的制备方法 | 第26-28页 |
| 2．4 α-C:F薄膜的沉积速率 | 第28-30页 |
| 第三章 CHF_3+C_6H_6微波放电等离子体的发射光谱分析 | 第30-37页 |
| 3．1 微波放电等离子体的发射光谱分析 | 第30-31页 |
| 3．2 不同微波功率下CHF_3+C_6H_6微波放电的发射光谱 | 第31-34页 |
| 3．3 微波功率对基团分布的影响 | 第34-37页 |
| 第四章 α-C∶F簿膜的成分与结构性质 | 第37-47页 |
| 4．1 α-C∶F薄膜键结构的红外分析 | 第37-42页 |
| 4．2 α-C∶F薄膜的XPS分析 | 第42-45页 |
| 4．3 微波放电与α-C∶F薄膜结构的关联 | 第45-47页 |
| 第五章 α-C∶F薄膜的介电性质 | 第47-58页 |
| 5．1 α-C∶F薄膜的介电分析方法 | 第47-52页 |
| 5．2 α-C∶F薄膜的低频介电性质 | 第52-55页 |
| 5．3 α-C∶F薄膜的光频介电性质 | 第55-58页 |
| 第六章 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 附录： 攻读学位期间公开发表的论文、项目鉴定和科研奖励 | 第65-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
