| 摘要 | 第1-10页 |
| Abstract | 第10-21页 |
| 第1章 绪论 | 第21-52页 |
| ·硬质复合薄膜概述 | 第21-23页 |
| ·国内外硬质薄膜技术的研究发展概况 | 第23-30页 |
| ·国外硬质薄膜研究动态 | 第23-24页 |
| ·国内硬质薄膜研究概况 | 第24-27页 |
| ·DLC薄膜的发展动态 | 第27-29页 |
| ·TiAlN薄膜的研究动态 | 第29-30页 |
| ·Ti-N-C系列薄膜的特性与表征 | 第30-33页 |
| ·Ti-N-C系列薄膜的特性 | 第30-31页 |
| ·Ti-N-C系列薄膜的表征 | 第31-33页 |
| ·DLC薄膜特性与表征 | 第33-40页 |
| ·DLC薄膜的结构特性 | 第33-34页 |
| ·DLC薄膜的表征 | 第34-35页 |
| ·DLC薄膜的性能 | 第35-36页 |
| ·DLC薄膜的应用 | 第36-37页 |
| ·DLC薄膜的掺杂改性 | 第37-39页 |
| ·DLC薄膜的过渡层 | 第39-40页 |
| ·TiAlN薄膜 | 第40-42页 |
| ·TiAlN薄膜的结构性能 | 第40页 |
| ·TiAlN薄膜的掺杂改性 | 第40-41页 |
| ·(Ti,Al)N薄膜的应用 | 第41-42页 |
| ·TiNC、TiAlN薄膜复合DLC薄膜的意义 | 第42页 |
| ·硬质薄膜的制备方法 | 第42-45页 |
| ·化学气相沉积(CVD)方法 | 第42-43页 |
| ·物理气相沉积(PVD)方法 | 第43-45页 |
| ·其它沉积方法 | 第45页 |
| ·本论文所采用的薄膜制备技术 | 第45-49页 |
| ·非平衡磁控溅射技术 | 第45-46页 |
| ·中频孪生靶磁控溅射技术 | 第46-47页 |
| ·电弧离子镀技术 | 第47-48页 |
| ·电弧离子镀与中频非平衡磁控溅射工艺结合 | 第48页 |
| ·霍尔离子源辅助沉积 | 第48-49页 |
| ·本论文研究的意义和内容 | 第49-52页 |
| ·论文研究的意义 | 第49-50页 |
| ·论文研究的内容 | 第50-52页 |
| 第2章 实验设备及测试分析方法 | 第52-61页 |
| ·实验所用薄膜沉积设备 | 第52-53页 |
| ·薄膜测试仪器与分析方法 | 第53-61页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)和X射线能谱仪(EDS) | 第53-54页 |
| ·X射线衍射仪(XRD) | 第54-55页 |
| ·激光拉曼光谱(Raman) | 第55-56页 |
| ·X射线光电子能谱仪(XPS) | 第56页 |
| ·微纳米力学综合测试系统(CMS) | 第56-58页 |
| ·轮廓仪 | 第58页 |
| ·显微硬度计 | 第58-59页 |
| ·摩擦磨损试验机 | 第59页 |
| ·分光光度计(色差仪) | 第59-60页 |
| ·电化学工作站 | 第60-61页 |
| 第3章 Ti-N-C膜系硬质复合薄膜的制备与性能研究 | 第61-87页 |
| ·膜系的选择与制备工艺 | 第61-62页 |
| ·TiN/Ti过渡膜层的制备与性能分析 | 第62-67页 |
| ·过渡膜层的制备 | 第62页 |
| ·TiN膜层相结构分析 | 第62-63页 |
| ·TiN膜层的厚度、表面形貌以及粗糙度分析 | 第63-65页 |
| ·TiN/Ti膜层的硬度与膜基结合力分析 | 第65-67页 |
| ·Ti(C,N)/TiN/Ti薄膜的制备与性能研究 | 第67-82页 |
| ·Ti(C,N)/TiN/Ti薄膜的制备 | 第67-68页 |
| ·工艺参数对Ti(C,N)/TiN/Ti薄膜颜色的影响 | 第68-71页 |
| ·工艺参数对Ti(C,N)/TiN/Ti薄膜晶体结构的影响 | 第71-74页 |
| ·Ti(C,N)/TiN/Ti复合薄膜的硬度分析 | 第74-77页 |
| ·Ti(C,N)/TiN/Ti薄膜的粗糙度分析 | 第77-79页 |
| ·Ti(C,N)/TiN/Ti薄膜结合力的分析 | 第79-82页 |
| ·TiC/Ti(C,N)/TiN/Ti复合薄膜制备与性能研究 | 第82-85页 |
| ·TiC/Ti(C,N)/TiN/Ti薄膜制备 | 第82页 |
| ·膜厚的测量 | 第82-83页 |
| ·工艺参数对TiC/Ti(C,N)/TiN/Ti薄膜性能的影响 | 第83-85页 |
| ·本章小结 | 第85-87页 |
| 第4章 无氢DLC(α-C)复合薄膜的制备与性能研究 | 第87-122页 |
| ·α-C复合薄膜的制备 | 第87-89页 |
| ·靶材的选择及安装 | 第87页 |
| ·α-C复合薄膜的制备工艺 | 第87-89页 |
| ·工艺参数对α-C薄膜性能的影响 | 第89-103页 |
| ·基片偏压对α-C薄膜性能的影响 | 第89-94页 |
| ·基片温度对α-C薄膜的影响 | 第94-98页 |
| ·霍尔离子源电流对α-C薄膜的影响 | 第98-103页 |
| ·过渡层及不同基体材料对沉积α-C复合薄膜的影响 | 第103-112页 |
| ·薄膜制备工艺 | 第103-105页 |
| ·α-C薄膜的激光拉曼光谱分析 | 第105页 |
| ·过渡层相结构分析 | 第105-108页 |
| ·过渡层的扫描电镜及线扫描分析 | 第108-109页 |
| ·α-C复合薄膜的结合力 | 第109-112页 |
| ·掺氮α-C:N薄膜的制备与性能研究 | 第112-119页 |
| ·试验工艺参数的确定 | 第112页 |
| ·氮气流量对α-C:N薄膜沉积速率的影响 | 第112-113页 |
| ·α-C:N薄膜的激光拉曼光谱分析 | 第113-115页 |
| ·α-C:N薄膜的表面形貌分析 | 第115-116页 |
| ·α-C:N薄膜的硬度与弹性模量 | 第116-117页 |
| ·α-C:N薄膜的色差分析 | 第117-118页 |
| ·α-C:N薄膜的摩擦系数 | 第118-119页 |
| ·本章小结 | 第119-122页 |
| ·基体偏压对α-C薄膜的影响 | 第119页 |
| ·基体温度对α-C薄膜的影响 | 第119-120页 |
| ·霍尔放电电流对α-C薄膜的影响 | 第120页 |
| ·过渡层对α-C薄膜的影响 | 第120-121页 |
| ·掺N_2量对α-C:N薄膜的影响 | 第121-122页 |
| 第5章 含氢DLC(α-C:H)复合薄膜的制备与研究 | 第122-143页 |
| ·α-C:H复合薄膜的制备 | 第122-124页 |
| ·霍尔离子电流对薄膜性能的影响 | 第124-129页 |
| ·复合薄膜厚度和沉积速率计算 | 第124页 |
| ·α-C:H薄膜的表面形貌 | 第124-125页 |
| ·α-C:H薄膜的色差分析 | 第125-126页 |
| ·α-C:H薄膜的激光拉曼光谱分析 | 第126-127页 |
| ·α-C:H薄膜硬度分析 | 第127-129页 |
| ·C_2H_2流量对α-C:H复合膜性能的影响 | 第129-132页 |
| ·复合薄膜厚度和沉积速率计算 | 第129页 |
| ·α-C:H膜的SEM表面形貌观测 | 第129-130页 |
| ·α-C:H薄膜的色差分析 | 第130页 |
| ·α-C:H薄膜激光拉曼光谱分析 | 第130-131页 |
| ·α-C:H薄膜摩擦性能分析 | 第131-132页 |
| ·α-C:H复合薄膜其他性能的检测和分析 | 第132-135页 |
| ·复合膜层的结合力测试分析 | 第132页 |
| ·α-C:H膜层耐腐蚀性分析 | 第132-135页 |
| ·α-C:H薄膜电阻值的测量分析 | 第135页 |
| ·掺杂N_2对α-C:H膜性能的影响 | 第135-141页 |
| ·薄膜厚度和沉积速率计算 | 第135页 |
| ·α-C:H:NSEM表面形貌观测 | 第135-136页 |
| ·α-C:H:N薄膜的色差分析 | 第136-137页 |
| ·α-C:H:N激光拉曼光谱分析 | 第137-138页 |
| ·α-C:H:N复合膜层的XPS深度剖析 | 第138-140页 |
| ·α-C:H:N薄膜的摩擦系数 | 第140-141页 |
| ·本章小结 | 第141-143页 |
| 第6章 Ti1-xAlxN和DLC/TiAlN复合薄膜的制备与分析研究 | 第143-164页 |
| ·实验设备及膜系设计 | 第143-144页 |
| ·Ti_(1-x)Al_xN复合薄膜的制备 | 第144-145页 |
| ·Al含量对Ti_(1-x)Al_xN复合薄膜性能的影响 | 第145-153页 |
| ·Ti_(1-x)Al_xN薄膜晶体结构分析 | 第145页 |
| ·Ti_(1-x)Al_xN复合薄膜硬度测试分析 | 第145-147页 |
| ·Ti_(1-x)Al_xN复合膜层剖析与膜基结合力分析 | 第147-151页 |
| ·Ti_(1-x)Al_xN复合薄膜的摩擦性能分析 | 第151-152页 |
| ·薄膜的表面形貌分析 | 第152-153页 |
| ·DLC(α-C:H)/TiAlN复合薄膜的制备与分析研究 | 第153-161页 |
| ·α-C:H/TiAlN复合薄膜的制备 | 第153-154页 |
| ·测试结果分析及性能研究 | 第154-161页 |
| ·本章小结 | 第161-164页 |
| 第7章 结论 | 第164-170页 |
| ·结论 | 第164-168页 |
| ·Ti-N-C膜系硬质复合薄膜的制备研究 | 第164页 |
| ·无氢DLC(α-C)复合薄膜的制备研究 | 第164-166页 |
| ·含氢DLC(α-C:H)复合薄膜的制备研究 | 第166-167页 |
| ·Ti_(1-x)Al_xN和TiAlN/DLC复合薄膜的制备与分析 | 第167-168页 |
| ·论文的主要创新点 | 第168-170页 |
| 参考文献 | 第170-182页 |
| 致谢 | 第182-183页 |
| 攻读博士学位期间发表的论著 | 第183-184页 |
| 作者从事科研和学习的简历 | 第184页 |
