| 摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-23页 |
| ·辐射剂量计的研究进展 | 第8-9页 |
| ·薄膜辐射剂量计简介 | 第9页 |
| ·Al_2O_3辐射剂量计 | 第9-12页 |
| ·热释光与光释光现象简介 | 第12-13页 |
| ·热释光现象简介 | 第12-13页 |
| ·光释光现象简介 | 第13页 |
| ·Al_2O_3薄膜的制备方法 | 第13-18页 |
| ·物理气相沉积 | 第13-17页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第17-18页 |
| ·薄膜测试方法介绍 | 第18-21页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第19页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第19-20页 |
| ·光致发光谱分析（PL） | 第20-21页 |
| ·热释光谱分析（TL） | 第21页 |
| ·论文研究目的 | 第21-23页 |
| 第二章 反应溅射法制备Al_2O_3薄膜 | 第23-33页 |
| ·引言 | 第23-24页 |
| ·实验原理及实验器材介绍 | 第24-25页 |
| ·实验原理 | 第24页 |
| ·实验器材简介 | 第24-25页 |
| ·反应溅射法主要特点分析 | 第25页 |
| ·实验方法介绍 | 第25-26页 |
| ·结果分析与讨论 | 第26-31页 |
| ·工艺参数对沉积速率的影响 | 第26-30页 |
| ·XRD 结构分析 | 第30页 |
| ·表面形貌分析 | 第30-31页 |
| ·EDS 成分分析 | 第31页 |
| ·小结 | 第31-33页 |
| 第三章 退火氧化法制备Al_2O_3薄膜及其发光性质研究 | 第33-43页 |
| ·引言 | 第33-34页 |
| ·铝膜退火氧化法主要特点分析 | 第34页 |
| ·实验方法介绍 | 第34-35页 |
| ·磁控溅射阶段 | 第34-35页 |
| ·热处理阶段 | 第35页 |
| ·结果分析与讨论 | 第35-42页 |
| ·XRD 晶体结构分析 | 第35-36页 |
| ·表面形貌分析 | 第36-37页 |
| ·红外吸收谱特性 | 第37-38页 |
| ·光致发光谱分析（PL） | 第38-39页 |
| ·热释光谱分析（TL） | 第39-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 第四章 溶胶凝胶法制备Al_2O_3薄膜及其热释光性质的研究 | 第43-50页 |
| ·引言 | 第43页 |
| ·溶胶-凝胶法制备勃姆石溶胶的基本原理 | 第43-44页 |
| ·溶胶凝胶法主要特点分析 | 第44页 |
| ·实验方法介绍 | 第44-46页 |
| ·原料选取 | 第44-45页 |
| ·Al_2O_3 铝溶胶的制备及退火处理 | 第45-46页 |
| ·实验结果分析 | 第46-48页 |
| ·XRD 结构分析 | 第46-47页 |
| ·SEM 形貌分析 | 第47-48页 |
| ·热释光特性分析 | 第48页 |
| ·小结 | 第48-50页 |
| 第五章 工作总结与展望 | 第50-54页 |
| ·工作总结 | 第50-51页 |
| ·存在的问题 | 第51页 |
| ·后继工作展望 | 第51-54页 |
| ·薄膜制备工作展望 | 第51-52页 |
| ·薄膜应用前景展望 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-59页 |
| 研究生期间发表论文情况 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |