直流反应磁控溅射法在3003铝箔表面制备薄膜的研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·Al-Mn系合金及其研究现状 | 第9-12页 |
| ·3003铝箔应用现状及存在问题 | 第12-13页 |
| ·薄膜技术及发展现状 | 第13-15页 |
| ·磁控溅射原理及过程 | 第15-18页 |
| ·本研究的主要意义及内容 | 第18-19页 |
| 第二章 试验方案及试验过程 | 第19-25页 |
| ·试验方案 | 第19-20页 |
| ·试验过程 | 第20-25页 |
| ·制样过程 | 第20页 |
| ·磁控溅射试验过程 | 第20-21页 |
| ·性能测试过程 | 第21-25页 |
| 第三章 不锈钢薄膜的制备及其性能研究 | 第25-35页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·试验材料与方法 | 第25-26页 |
| ·试验结果与分析 | 第26-33页 |
| ·扫描电镜分析 | 第26-28页 |
| ·XRD分析 | 第28-29页 |
| ·磨损试验 | 第29-30页 |
| ·薄膜厚度与硬度试验 | 第30-31页 |
| ·盐雾试验 | 第31-32页 |
| ·硬度压痕及截面形貌分析 | 第32-33页 |
| ·分析与讨论 | 第33页 |
| ·小结 | 第33-35页 |
| 第四章 (Ti，Al)N薄膜的制备及其性能研究 | 第35-47页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·试验材料与方法 | 第35-36页 |
| ·试验结果与分析 | 第36-45页 |
| ·扫描电镜分析 | 第36-37页 |
| ·薄膜厚度与能谱分析 | 第37-40页 |
| ·极化曲线试验 | 第40-42页 |
| ·XRD分析 | 第42-43页 |
| ·磨损试验 | 第43-44页 |
| ·硬度试验 | 第44-45页 |
| ·分析与讨论 | 第45-46页 |
| ·小结 | 第46-47页 |
| 第五章 ITO薄膜的制备及其性能研究 | 第47-54页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·试验材料与方法 | 第47-48页 |
| ·试验结果与分析 | 第48-53页 |
| ·XRD分析 | 第48-49页 |
| ·扫描电镜分析 | 第49-51页 |
| ·硬度与厚度试验 | 第51页 |
| ·附着强度试验 | 第51-52页 |
| ·盐雾试验 | 第52页 |
| ·紫外-可见光反射率试验 | 第52-53页 |
| ·分析与讨论 | 第53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 第六章 AlMo薄膜的制备及其性能研究 | 第54-58页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·试验材料与方法 | 第54-55页 |
| ·试验结果与分析 | 第55-56页 |
| ·XRD分析 | 第55页 |
| ·扫描电镜分析 | 第55-56页 |
| ·硬度与厚度试验 | 第56页 |
| ·分析与讨论 | 第56-57页 |
| ·小结 | 第57-58页 |
| 第七章 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-66页 |
| 附录 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
