高性能碳化硅陶瓷材料制备技术研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-31页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·无压烧结工艺在工程陶瓷领域中的应用与发展 | 第10-11页 |
| ·碳化硅陶瓷材料研究进展 | 第11-28页 |
| ·碳化硅粉体的制备及改性技术 | 第11-17页 |
| ·碳化硅的晶体结构及基本特性 | 第11-13页 |
| ·碳化硅粉体制备技术 | 第13-16页 |
| ·碳化硅粉体改性技术 | 第16-17页 |
| ·碳化硅陶瓷的成型技术 | 第17-20页 |
| ·模压成型 | 第17-18页 |
| ·等静压成型 | 第18-19页 |
| ·挤压成型 | 第19-20页 |
| ·碳化硅陶瓷的烧结致密技术 | 第20-28页 |
| ·反应烧结 | 第20-21页 |
| ·无压烧结 | 第21-26页 |
| ·再结晶烧结 | 第26页 |
| ·热压烧结 | 第26-27页 |
| ·热等静压烧结 | 第27-28页 |
| ·论文的研究背景及意义 | 第28-31页 |
| ·研究背景 | 第28-29页 |
| ·意义 | 第29-31页 |
| 第二章 实验方案与方法 | 第31-36页 |
| ·实验方法 | 第31-36页 |
| ·原料 | 第31页 |
| ·粉体处理 | 第31-33页 |
| ·成型方式 | 第33页 |
| ·无压烧结实验过程 | 第33-36页 |
| 第三章 实验结果与讨论 | 第36-58页 |
| ·碳化硅粉体的超微化处理 | 第36-40页 |
| ·试验过程 | 第36页 |
| ·测试与表征 | 第36页 |
| ·试验结果与分析 | 第36-40页 |
| ·碳化硅粉体的提纯除杂技术 | 第40-42页 |
| ·过验过程 | 第40页 |
| ·测试与表征 | 第40页 |
| ·试验结果与分析 | 第40-42页 |
| ·碳化硅粉体的喷雾造粒 | 第42-47页 |
| ·过验过程 | 第42-43页 |
| ·试验结果与分析 | 第43-47页 |
| ·碳化硅粉体的无压烧结、性能及显微结构分析 | 第47-58页 |
| ·实验过程 | 第47-49页 |
| ·试验结果与分析 | 第49-58页 |
| 第四章 结论 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
